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維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
2025年關(guān)于麥歌恩動(dòng)態(tài)
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雅特力AT32 Workbench煥“芯”升級(jí)!
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矽睿科技獲TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場(chǎng)機(jī)遇并存
本實(shí)用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,尤其是指一種適用于濕式蝕刻機(jī)的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備。背景技術(shù):請(qǐng)參閱圖1所示,為傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖,其中一實(shí)心pvc板態(tài)樣的擋液板結(jié)構(gòu)a設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)(圖式未標(biāo)示)內(nèi),主要用以阻擋一蝕刻藥液(圖式未標(biāo)示)對(duì)設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)a下方的基板(圖式未標(biāo)示)的噴濺而造成蝕刻不均勻的現(xiàn)象,并且在濕式蝕刻的制程步驟中,該基板設(shè)置于二風(fēng)刀b之間,當(dāng)該基板設(shè)置于一輸送裝置(圖式未標(biāo)示)而由該擋液板結(jié)構(gòu)a的左方接受蝕刻藥液蝕刻后移動(dòng)至風(fēng)刀b之間,該等風(fēng)刀b再噴出一氣體c到該基板的表面以將該基板表面殘留的蝕刻藥液吹除;然而,當(dāng)在該等風(fēng)刀b進(jìn)行吹氣的狀態(tài)下,容易在該擋液板結(jié)構(gòu)a下方形成微小的真空空間而形成渦流并造成真空吸板的問題;因此,如何有效借由創(chuàng)新的硬體設(shè)計(jì),確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)致的基板刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn),仍是濕式蝕刻機(jī)等相關(guān)產(chǎn)業(yè)開發(fā)業(yè)者與相關(guān)研究人員需持續(xù)努力克服與解決的課題。蘇州博洋化學(xué)股份有限公司使命必達(dá)。上海蝕刻液產(chǎn)品介紹

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象,確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢(shì)。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50,該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對(duì)該基板20進(jìn)行一濕式蝕刻制程;由上述的說(shuō)明,擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對(duì)已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進(jìn)行蝕刻制程,故仍舊會(huì)有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免該基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生。該輸送裝置30設(shè)置于該基板20的下方,該輸送裝置30包括有至少一滾輪31,其中該滾輪31與該基板20接觸以運(yùn)行該基板20;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,該輸送裝置30用以承載并運(yùn)送至少一該基板20于該濕式蝕刻機(jī)內(nèi)運(yùn)行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運(yùn)作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖式未標(biāo)示)以驅(qū)動(dòng)該滾輪31轉(zhuǎn)動(dòng),例如:順時(shí)針旋轉(zhuǎn)。廣州哪家蝕刻液蝕刻液聯(lián)系方式哪家的蝕刻液比較好用點(diǎn)?

以及一設(shè)置于基板下方的第二風(fēng)刀,其中***風(fēng)刀與第二風(fēng)刀分別吹出一氣體至基板。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中蝕刻設(shè)備可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置,噴灑裝置相對(duì)于風(fēng)刀裝置一端而設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的另一端部。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中噴灑裝置噴灑一藥液至基板上。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中擋液板結(jié)構(gòu)與基板的垂直距離介于8mm至15mm之間。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中滾輪呈順時(shí)針方向轉(zhuǎn)動(dòng),并帶動(dòng)基板由噴灑裝置下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中氣體遠(yuǎn)離***風(fēng)刀與第二風(fēng)刀的方向分別與基板的法線方向夾設(shè)有一第三夾角。如上所述的蝕刻設(shè)備,其中第三夾角介于20度至35度之間。再者,為了達(dá)到上述實(shí)施目的,本實(shí)用新型另研擬一種蝕刻方法,于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體內(nèi)運(yùn)行;首先,設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu),其中擋液板結(jié)構(gòu)設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔;接著,使用一設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)下方的輸送裝置輸送一基板,以經(jīng)過一噴灑裝置進(jìn)行一藥液噴灑;接續(xù),使用一設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)下方的風(fēng)刀裝置對(duì)基板吹出一氣體,以使基板干燥;***,氣體經(jīng)由宣泄孔宣泄。如上所述的蝕刻方法。
推薦的,所述制備裝置主體的兩端緊密貼合有防燙隔膜。推薦的,所述高效攪拌裝置是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)的震蕩彈簧件,震蕩彈簧件頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組,運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組頂端的控制面板,內(nèi)部中間部位的致密防腐桿和致密防腐桿內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔共同組合而成。推薦的,所述注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口,嵌入引流口一端的負(fù)壓引流器,負(fù)壓引流器一端的注入量控制容器,注入量控制容器內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線和注入量控制容器一側(cè)的限流銷共同組合而成。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本種實(shí)用新型的有益效果是:1.通過設(shè)置高效攪拌裝置,該裝置通過運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)高效攪拌裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)搖勻,高效攪拌裝置內(nèi)部的蝕刻液通過內(nèi)置的致密防腐桿,致密防腐桿內(nèi)部的攪動(dòng)孔能夠使蝕刻液不斷細(xì)化均勻化,從而很好的防止了蝕刻液的腐蝕,且成本低廉,攪拌均勻效果較好。2.通過設(shè)置高效攪拌裝置,通過設(shè)置注入量精確調(diào)配裝置,工作人員通過負(fù)壓引流器將鹽酸硝酸引向注入量控制容器內(nèi),通過觀察注入量控制容器內(nèi)的注入量觀察刻度線對(duì)注入量進(jìn)行精確控制,當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定的注入量時(shí)將限流銷插入進(jìn)行限流即可?!覆┭蠡瘜W(xué)」專業(yè)生產(chǎn)蝕刻液廠家,選用環(huán)保型的蝕刻液,產(chǎn)品用的放心!

裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21,裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件9,裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8,收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7,過濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24,過濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的,硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入制備材料的時(shí)候,需要將儲(chǔ)罐進(jìn)行密封,密封環(huán)22能將硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其他儲(chǔ)罐的頂蓋與儲(chǔ)罐主體連接的位置進(jìn)行密封,使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi),有效的提高了裝置使用的密封性。推薦的,連接構(gòu)件11的兩側(cè)嵌入連接有海綿層12,在使用裝置制備蝕刻液的時(shí)候,需要通過連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部的部件進(jìn)行連接,在旋轉(zhuǎn)連接構(gòu)件11的兩側(cè)時(shí),操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收。江蘇省有哪些公司可以做蝕刻液。京東方用的蝕刻液蝕刻液銷售廠
金屬蝕刻網(wǎng)會(huì)用到蝕刻液?jiǎn)?;上海蝕刻液產(chǎn)品介紹
因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時(shí)會(huì)過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題。美國(guó)公開**第2號(hào)公開了在3dnand閃存的制造工序中,對(duì)于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,不得不需要測(cè)試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實(shí)際情況是,與上述同樣,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1:美國(guó)公開**第2號(hào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問題的發(fā)明,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力。此外,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物。此外,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。此外,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。解決課題的方法為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。上海蝕刻液產(chǎn)品介紹