國產(chǎn)MCU賦能低空經(jīng)濟(jì)發(fā)展
關(guān)于雅特力助力關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)
維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
2025年關(guān)于麥歌恩動(dòng)態(tài)
雅特力推出新系列微控制器:AT32F455/F456/F45
雅特力科技助力宇樹科技推動(dòng)智慧機(jī)器人創(chuàng)新應(yīng)用
雅特力AT32 Workbench煥“芯”升級!
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矽??萍极@TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場機(jī)遇并存
可以維持合適的蝕刻速度且提高sin/sio2選擇比。(b)硅烷系偶聯(lián)劑本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶聯(lián)劑作為防蝕劑可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化時(shí)使用。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以,更推薦滿足。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦按照蝕刻液組合物的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來添加。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦為選自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate)、雙(三乙氧基甲硅烷基)甲烷(bis(triethoxysilyl)methane)、雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(bis(triethoxysilyl)ethane)、(三乙氧基甲硅烷基)甲醇((triethoxysilyl)methanol)和(三乙氧基甲硅烷基)甲烷((triethoxysilyl)methane)組成的組中的一種以上,更推薦為選自由雙(三乙氧基甲硅烷基)甲烷、(三乙氧基甲硅烷基)甲醇和(三乙氧基甲硅烷基)甲烷組成的組中的一種以上,**推薦為(三乙氧基甲硅烷基)甲烷和/或(三乙氧基甲硅烷基)甲醇。相對于組合物總重量,上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量為~10重量%,推薦為~%。蝕刻液,準(zhǔn)確蝕刻,效果好。綿陽江化微的蝕刻液蝕刻液什么價(jià)格

鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示:鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品,STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品,添加劑,輔助化學(xué)品,對于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果,在長效性的表現(xiàn)上更是無話可說.在化學(xué)特性上,鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊,本化學(xué)品設(shè)計(jì)上為酸性配方且完全可被水溶解,故無須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來調(diào)整蝕刻速率,所以本化學(xué)品對于初次使用者來說,是簡單容易上手。四川銅鈦蝕刻液蝕刻液報(bào)價(jià)蘇州有哪些公司可以做蝕刻液。

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長的特點(diǎn)。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機(jī)酸/有機(jī)酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)工藝,該生產(chǎn)工藝溫控嚴(yán)格,生產(chǎn)過程中安全性高。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,備用。
銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學(xué)品產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于平板顯示、LED制造及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。隨著新技術(shù)的不斷進(jìn)步,對該蝕刻液也有了更高的要求。并且之前市場上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進(jìn)行了無氟,無硝酸,低雙氧水濃度銅蝕刻液的研發(fā),并可兼容于不同CuMo鍍膜厚度之工藝。產(chǎn)品特點(diǎn):1.6%雙氧水濃度的銅蝕刻液lifetime可至7000ppm。2.末期銅蝕刻液工藝溫度(32)下可穩(wěn)定72H,常溫可穩(wěn)定120H;無暴沸現(xiàn)象。3.銅蝕刻液CD-Loss均一性良好,taper符合制程要求。4.銅蝕刻液可兼容MoCu結(jié)構(gòu)不同膜厚度的機(jī)種。蝕刻不同金屬用到的蝕刻液一樣嗎?

鋁板面蝕刻用:酸、堿都行。(鋁板是兩性材料,既能與酸反應(yīng),又能與堿反應(yīng),所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,有的用酸性材料腐蝕,一般情況下,以酸性材料腐蝕的為多,堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,去掉油膩、劃痕,磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,油墨型號為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細(xì)膩,印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進(jìn)電爐內(nèi)烘干,然后用即時(shí)貼封住后面,用膠帶封邊,進(jìn)入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下:三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量,波美度15~20°之間,鋁板腐蝕時(shí)應(yīng)平放,在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣,應(yīng)隨時(shí)用毛刷去掉,鋁面上冒出大量泡泡,滓渣隨泡泡浮起。鋁板的腐蝕時(shí)間大約在15~20min左右就可完成。一般情況下鋁板厚度不應(yīng)低于1mm,否則一不小心會(huì)腐蝕透,影響效果。鋁板的防護(hù)材料用香蕉水去掉。腐蝕后的鋁板拋光和銅板一樣,拋光時(shí)用香蕉水搓凈余蠟,用另一塊棉花擦磨出亮光,然后噴護(hù)光劑防護(hù),其它同銅一樣加工。)歡迎詢價(jià),蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。江蘇銅蝕刻液蝕刻液私人定做
使用蝕刻液需要什么條件。綿陽江化微的蝕刻液蝕刻液什么價(jià)格
影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長;在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響:通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。綿陽江化微的蝕刻液蝕刻液什么價(jià)格