國產(chǎn)MCU賦能低空經(jīng)濟發(fā)展
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維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
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矽睿科技獲TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場機遇并存
濕電子化學(xué)品位于電子信息產(chǎn)業(yè)偏中上游的材料領(lǐng)域。濕電子化學(xué)品上游是基礎(chǔ)化工產(chǎn)品,下游是電子信息產(chǎn)業(yè)(信息通訊、消費電子、家用電器、汽車電子、LED、平板顯示、太陽能電池、**等領(lǐng)域)。濕電子化學(xué)品的生產(chǎn)工藝主要采用物理的提純技術(shù)及混配技術(shù),將工業(yè)級的化工原料提純?yōu)槌瑑舾呒兓瘜W(xué)試劑,并按照特定的配方混配為具有特定功能性的化學(xué)試劑。濕電子化學(xué)品行業(yè)是精細(xì)化工和電子信息行業(yè)交叉的領(lǐng)域,其行業(yè)特色充分融入了兩大行業(yè)的自身特點,具有品種多、質(zhì)量要求高、對環(huán)境潔凈度要求苛刻、產(chǎn)品更新?lián)Q代快、產(chǎn)品附加值高、資金投入量大等特點,是化工領(lǐng)域相當(dāng)有發(fā)展前景的領(lǐng)域之一。哪家公司的剝離液的是口碑推薦?嘉興天馬用的蝕刻液剝離液聯(lián)系方式

該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當(dāng)前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當(dāng)前級腔室相應(yīng)的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則可以關(guān)閉被阻塞的子過濾器的閥門,因此,步驟140還可以包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。在上述實施例中,對各個實施例的描述都各有側(cè)重,某個實施例中沒有詳述的部分,可以參見其他實施例的相關(guān)描述。以上對本申請實施例進行了詳細(xì)介紹,本文中應(yīng)用了具體個例對本申請的原理及實施方式進行了闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本申請的技術(shù)方案及其思想;本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改,或者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換。池州BOE蝕刻液剝離液銷售廠剝離液適用于半導(dǎo)體和顯示行業(yè)光刻膠的剝離;

本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點,還報道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻1),由于剝離時的抗蝕劑沒有微細(xì)地粉碎,因此存在近年的微細(xì)的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點?,F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2002-323776號公報技術(shù)實現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細(xì)的布線間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專利文獻1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細(xì)的布線間的抗蝕劑也能細(xì)小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。
以往的光刻膠剝離液對金屬的腐蝕較大,可能進入疊層內(nèi)部造成線路減薄,藥液殘留,影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會對疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,既具有較高的光刻膠剝離效率,又不會對晶圓內(nèi)層有很大的腐蝕。本發(fā)明通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)上述目的:一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,配方包括10~20wt%二甲基亞砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氫氧化銨,~1wt%硫脲類緩蝕劑和~2wt%聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。具體的。剝離液有怎么進行分類的。

本實用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備,具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術(shù):光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,其是由溶劑、感光樹脂、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,進行光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等過程,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至待加工的襯底上,然后進行蝕刻等工藝加工,終得到所需圖像。其中,溶劑使光刻膠具有流動性,易揮發(fā),對于光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎沒有影響。感光樹脂是惰性的聚合物,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機械和化學(xué)性質(zhì)。光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分,對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。添加劑是控制光刻膠材料特殊方面的化學(xué)物質(zhì),用來控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或響應(yīng)特性。在光刻工藝中,一般步驟為勻膠—干燥—前烘--曝光—顯影—后烘—蝕刻—剝離。在光刻膠剝離工序中會產(chǎn)生剝離廢液,光刻膠價格昂貴,如不對廢液中的光刻膠成分回收利用,會造成較大的資源浪費,因此企業(yè)通常將剝離廢液中的光刻膠樹脂進行有效回收并應(yīng)用于再生產(chǎn)中。哪家剝離液質(zhì)量比較好一點?滁州顯示面板用剝離液銷售廠家
剝離液分為溶劑型和水系兩種類別;嘉興天馬用的蝕刻液剝離液聯(lián)系方式
使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產(chǎn)效率。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖**是本申請的一些實施例,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來講。嘉興天馬用的蝕刻液剝離液聯(lián)系方式