國(guó)產(chǎn)MCU賦能低空經(jīng)濟(jì)發(fā)展
關(guān)于雅特力助力關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)
維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
2025年關(guān)于麥歌恩動(dòng)態(tài)
雅特力推出新系列微控制器:AT32F455/F456/F45
雅特力科技助力宇樹科技推動(dòng)智慧機(jī)器人創(chuàng)新應(yīng)用
雅特力AT32 Workbench煥“芯”升級(jí)!
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矽??萍极@TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場(chǎng)機(jī)遇并存
操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收,避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時(shí)候,會(huì)因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況,有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進(jìn)行;然后,通過連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部構(gòu)件進(jìn)行連接,連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個(gè),連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉(cāng)23的底部,連接構(gòu)件11與攪拌倉(cāng)23固定連接,連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端,再通過連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進(jìn)行連接,通過轉(zhuǎn)動(dòng)連接構(gòu)件11的兩側(cè)部位,同時(shí)使連接管與連接構(gòu)件11的中間位置固定住,通過活動(dòng)軸28的作用,使連接管通過連接有的螺紋向內(nèi)來連接,使連接管將密封軟膠層29進(jìn)行擠壓,使兩構(gòu)件的連接管進(jìn)行密封連接,有效的提高了裝置連接的實(shí)用性;接著,更換或添加硝酸鉀儲(chǔ)罐21或其它儲(chǔ)罐內(nèi)的制備材料,硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入制備材料的時(shí)候,需要將儲(chǔ)罐進(jìn)行密封,密封環(huán)22能將硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其他儲(chǔ)罐的頂蓋與儲(chǔ)罐主體連接的位置進(jìn)行密封。蝕刻液的是怎么進(jìn)行分類的。銀蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長(zhǎng)的特點(diǎn)。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機(jī)酸/有機(jī)酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)工藝,該生產(chǎn)工藝溫控嚴(yán)格,生產(chǎn)過程中安全性高。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對(duì)應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,備用。佛山格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù)上海和輝光電用的哪家的蝕刻液?

內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)的震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13,運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13頂端的控制面板15,內(nèi)部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔17共同組合而成,由于鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過高,且混合的效果不好,通過設(shè)置高效攪拌裝置2,該裝置通過運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12,使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12帶動(dòng)高效攪拌裝置2進(jìn)行旋轉(zhuǎn)搖勻,同時(shí)設(shè)置的震蕩彈簧件14可通過驅(qū)動(dòng)對(duì)高效攪拌裝置2進(jìn)行震蕩搖勻,高效攪拌裝置2內(nèi)部的蝕刻液通過內(nèi)置的致密防腐桿16,致密防腐桿16內(nèi)部的攪動(dòng)孔17能夠使蝕刻液不斷細(xì)化均勻化,從而很好的防止了蝕刻液的腐蝕,且成本低廉,攪拌均勻效果較好。推薦的,注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐7內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口22,嵌入引流口22一端的負(fù)壓引流器21,負(fù)壓引流器21一端的注入量控制容器18,注入量控制容器18內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線19和注入量控制容器18一側(cè)的限流銷20共同組合而成,現(xiàn)有的制備裝置無法對(duì)相關(guān)原料的注入量進(jìn)行精確控制,無法很好的保證蝕刻液制備的純度,通過設(shè)置注入量精確調(diào)配裝置。
所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱,達(dá)到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,通過減壓閥12減壓,真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,大液滴中含有銅,通過除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流板。液體在隨著氣體上升時(shí)會(huì)有慣性,因?yàn)橐后w與氣體的質(zhì)量不同,他們的慣性也不同,當(dāng)夾帶著液體的氣體以一定速度通過折流板曲折的通道時(shí),液體流動(dòng)的方向不斷在曲折的通道中發(fā)生變化,液體的慣性較大,依舊保持原來的運(yùn)動(dòng)方向,從氣體中脫離,撞擊折流板壁面從而被擋下,氣體則順利通過折流板通道排出,被擋下的液體在壁面上匯集成液流,因重力的作用從折流板上流下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除沫組件4為絲網(wǎng)。因?yàn)槌F組件3中的撞擊過程。金屬蝕刻液有哪些種類分類?;

更推薦滿足。參照?qǐng)D4,在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于,能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于,能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此,在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上,能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下,上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力,由此,即使沒有消耗費(fèi)用和時(shí)間的實(shí)際的實(shí)驗(yàn)過程,也能夠選擇具有目標(biāo)防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護(hù)對(duì)象膜(氧化物膜)的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來添加。例如,對(duì)于包含氧化物膜(例如,sio2)和上述氧化物膜上的氮化物膜(例如,sin)的膜在160℃以添加劑濃度1000ppm基準(zhǔn)處理10,000秒的情況下,推薦按照保護(hù)對(duì)象膜的蝕刻程度(etchingamount,e/a)滿足以上以下的范圍的濃度添加。本發(fā)明的添加劑的防蝕能力可以通過上述添加劑的aeff值與濃度之積來計(jì)算,由蝕刻程度(etchingamount,e/a)來表示。蝕刻程度的正的值表示蝕刻工序后厚度增加。剝離液可以有正膠和負(fù)膠以及正負(fù)膠不同的分類。蘇州市面上哪家蝕刻液訂做價(jià)格
蝕刻液,專業(yè)配方,穩(wěn)定可靠,值得信賴。銀蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨
其中輸送裝置借由至少一呈順時(shí)針方向轉(zhuǎn)動(dòng)的滾輪帶動(dòng)基板由噴灑裝置的下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀的下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻方法,其中風(fēng)刀裝置分別借由一設(shè)置于該輸送裝置的上端部的***風(fēng)刀與一設(shè)置于該輸送裝置的下端部的第二風(fēng)刀朝向基板的上表面與下表面吹送氣體。借此,本實(shí)用新型所產(chǎn)生的技術(shù)效果:本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計(jì),有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F(xiàn)象,確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)致的基板刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢(shì)。附圖說明圖1:傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖。圖2:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖3:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其一較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖。圖4:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖。圖5:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖。圖6:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。銀蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨