影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長(zhǎng);在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響:通過(guò)蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過(guò)量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。BOE蝕刻液的溶液成分。池州江化微的蝕刻液蝕刻液銷(xiāo)售公司
該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等,且該上孔徑a1小于該下孔徑a2,或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮,以維持毛細(xì)現(xiàn)象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題。當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板(本圖式未標(biāo)示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖10與圖11所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的顯影不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問(wèn)題;為了必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題,故該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12上表面的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖12所示)。另請(qǐng)參閱圖13所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備的蝕刻方法的步驟流程圖,其中本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備的蝕刻方法主要包括有下列步驟。合肥銅蝕刻液蝕刻液聯(lián)系方式哪家的蝕刻液的價(jià)格低?
該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其主要特征在于:該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置,且該第二擋板12與該第三擋板13呈正交設(shè)置,以使該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13圍設(shè)成一凹槽的態(tài)樣,在一實(shí)施例中,該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13可以為一體成形,其中該第二擋板12的長(zhǎng)度h介于10cm至15cm之間,而該等開(kāi)設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121可呈千鳥(niǎo)排列或矩陣排列等其中的一種排列的態(tài)樣,且該宣泄孔121可為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,開(kāi)設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121呈千鳥(niǎo)排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離(例如:圖3中所示的w),其中該宣泄孔121的一孔徑a0比較好小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí),則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外,請(qǐng)一并參閱圖4圖5所示。
可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻,蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒(méi)有影響,可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法:1、原液使用,不須加水,操作溫度可以是25℃-60℃,溫度越高,速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來(lái)回輕輕刷動(dòng),使藥水與銀充分均勻反應(yīng);或者也可以用搖床,使藥水來(lái)回動(dòng)運(yùn),使板蝕刻速度加快。但不能超聲波,以免破壞(感光)油墨。參考數(shù)據(jù):50℃→5分鐘→0.1毫米深度。30℃→20分鐘→0.1毫米深度。3、水洗后做后續(xù)處理。蘇州博洋化學(xué)股份有限公司使命必達(dá)。
銀蝕刻液主要用于印刷線路板制造,銀器及銀合金的蝕刻、標(biāo)牌制作。二、突出特點(diǎn)1.蝕刻速度快,效率高。使用方便。蝕刻最高速度可達(dá)2000納米/秒。2.可循環(huán)使用,無(wú)廢液排放。三、理化指標(biāo)外觀:液體;氣味:微;比重:1.05±0.1;pH:偏堿性四、使用方法1.預(yù)處理:如銀或銅合金表面不潔凈,需對(duì)表面進(jìn)行潔凈處理,如除油、除雜等。2.蝕刻:(1).將圖案模板紙粘附于銀板或銀器上,再將銀蝕刻液用噴淋設(shè)備噴于圖案處,時(shí)間1分鐘到幾十分鐘不定(用戶(hù)可根據(jù)蝕刻要求自行試驗(yàn)時(shí)間,因模板紙不同,時(shí)間也不同),揭去模板紙,用清水沖掉殘物。(2).用100-200T的絲網(wǎng),75度硬度的聚酯刮膠,將光固化抗蝕刻油墨印刷在基板上,然后將油墨在紫外燈下光照20—30秒鐘,(紫外光能量為1000mj/cm2)。用噴淋的方式進(jìn)行蝕刻,溫度50±5℃,壓力1-3kg/cm2時(shí)間1分鐘到幾分鐘,(具體時(shí)間根據(jù)蝕刻深度而定)。然后,用1%--3%的氫氧化鈉溶液將光固化抗蝕刻油墨溶解出去。蝕刻液 [博洋化學(xué)] 新工藝,實(shí)現(xiàn)循環(huán)使用!安徽市面上哪家蝕刻液
使用蝕刻液的時(shí)候需要注意的事項(xiàng)有哪些?池州江化微的蝕刻液蝕刻液銷(xiāo)售公司
將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對(duì)于這類(lèi)的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過(guò)濾網(wǎng)7過(guò)濾到進(jìn)液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池4的功能,之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出;其次在蝕刻液初次電解后,通過(guò)控制面板30啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)一號(hào)電磁閥18,將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅,起到循環(huán)電解蝕刻液的作用,然后打開(kāi)二號(hào)電磁閥23,將蝕刻液通過(guò)二號(hào)排液管22導(dǎo)入到分隔板2左側(cè),傾斜板24使得蝕刻液向左流動(dòng)以便排出到裝置主體1外,接著啟動(dòng)抽氣泵19,將電解池4中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管20并導(dǎo)入到集氣箱21中,實(shí)現(xiàn)有害氣體的清理,緊接著打開(kāi)活動(dòng)板25將金屬銅取出,之后啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)三號(hào)電磁閥29,將由進(jìn)水管27導(dǎo)入到蓄水箱26中的清水。池州江化微的蝕刻液蝕刻液銷(xiāo)售公司