伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13,圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14,分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置,電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°,進液管8的形狀設(shè)計為l型,且進液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進液漏斗6與伸縮管9之間,圓環(huán)塊13通過伸縮桿12活動安裝在噴頭10上方,且噴頭10通過伸縮管9活動安裝在電解池4上方,通過設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12,能夠在蝕刻液通過進液管8流入到電解池4中時,啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動,從而通過圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動噴頭10向上移動,進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護電解池4的功能;分隔板2右端表面靠近上端固定安裝有增壓泵16,增壓泵16下端與電解池4之間連接有回流管15,增壓泵16上端與進液管8之間連接有一號排液管17,回流管15內(nèi)部左端設(shè)置有一號電磁閥18,回流管15與進水管27的形狀均設(shè)計為l型,通過在增壓泵16下端設(shè)置有回流管15,能夠在蝕刻液電解后,啟動增壓泵16并打開一號電磁閥18,將蝕刻液通過回流管15抽入到一號排液管17中,并由進液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中。優(yōu)先蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。揚州銀蝕刻液蝕刻液銷售公司
故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生;此外,該輸送裝置30用以承載并運送至少一該基板20于該濕式蝕刻機內(nèi)運行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動機構(gòu)以驅(qū)動該滾輪31轉(zhuǎn)動,以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動。步驟三s3:使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的風(fēng)刀裝置40對該基板20吹出一氣體43,以使該基板20干燥;在本實用新型其一較佳實施例中,該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的該藥液51帶往與相反于該基板20的行進方向,以使該基板20降低該藥液51殘留,其中該氣體43遠離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。步驟四s4:該氣體43經(jīng)由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121宣泄;在本實用新型其一較佳實施例中。無錫江化微的蝕刻液蝕刻液哪里買蝕刻液的大概費用大概是多少?
所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件,所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉,所述收集倉的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門,所述過濾部件的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋,所述過濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管,所述連接構(gòu)件的內(nèi)部中間兩側(cè)活動連接有活動軸,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層。推薦的,所述硝酸鉀儲罐的頂部嵌入連接有密封環(huán)。推薦的,所述連接構(gòu)件的兩側(cè)嵌入連接有海綿層。推薦的,所述支撐腿的底端嵌入連接有防滑紋。推薦的,所述過濾部件的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板。推薦的,所述過濾部件設(shè)置有一個,所述過濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè),所述過濾部件與連接構(gòu)件固定連接。推薦的,所述連接構(gòu)件設(shè)置有十四個,所述連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部,所述連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:1.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,過濾部件,過濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè),過濾部件與連接構(gòu)件固定連接,過濾部件能將制備出的蝕刻液進行過濾。
本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機酸/有機酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)工藝,該生產(chǎn)工藝溫控嚴(yán)格,生產(chǎn)過程中安全性高。為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,備用。性價比高的蝕刻液哪里可以買到;
etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實施方式本發(fā)明人確認(rèn)了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化,從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優(yōu)異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發(fā)明中,蝕刻對象膜可以為氮化物膜,保護對象膜可以為氧化物膜。此外,本發(fā)明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。<蝕刻液組合物>具體而言,本發(fā)明可以包含磷酸、添加劑和水,上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。本發(fā)明的上述添加劑的特征在于,使上述添加劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以(參照以下數(shù)學(xué)式)滿足。本發(fā)明中,各添加劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量的例子示于表3中。此外,由此計算的各添加劑的aeff值和與此有關(guān)的蝕刻程度的例示示于表2中。參照上述結(jié)果,可以確認(rèn)到上述添加劑的aeff值推薦滿足。蝕刻液可以蝕刻什么金屬材質(zhì);深圳京東方用的蝕刻液蝕刻液報價
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近年來,oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機和平板顯示。金屬銀以優(yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對此進行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實際使用過程中仍會存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問題。5.本發(fā)明通過以下技術(shù)手段實現(xiàn)解決上述技術(shù)問題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質(zhì)量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機物、其余為水組成。揚州銀蝕刻液蝕刻液銷售公司