售后服務(wù)：科研保障的全周期覆蓋，Polos通過經(jīng)銷商網(wǎng)絡(luò)提供完善的售后支撐，設(shè)備整機(jī)質(zhì)保期長達(dá)1年，貨期約200天。安裝調(diào)試階段提供現(xiàn)場free培訓(xùn)，確保操作人員快速掌握設(shè)備使用與維護(hù)技巧。針對科研機(jī)構(gòu)的特殊需求，還可提供定制化光學(xué)模塊更換服務(wù)，例如將405nm光源升級為375nm以適配i-Line光刻膠，這種靈活的服務(wù)模式大幅提升了設(shè)備的適配性。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?無掩模激光直寫技術(shù)：無需物理掩膜，軟件直接輸入任意圖案，降低成本與時(shí)間。遼寧德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長

德國Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無掩模激光直寫技術(shù)，突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源，可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18。系統(tǒng)體積緊湊，only占桌面空間，搭配閉環(huán)自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準(zhǔn)功能，大幅提升實(shí)驗(yàn)室原型開發(fā)效率，適用于微流體芯片設(shè)計(jì)、電子元件制造等領(lǐng)域。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。浙江桌面無掩模光刻機(jī)可以自動聚焦波長雙光子聚合擴(kuò)展：結(jié)合Nanoscribe技術(shù)實(shí)現(xiàn)3D微納打印，拓展微型機(jī)器人制造。

生物醫(yī)學(xué)：神經(jīng)工程的微觀助力，在神經(jīng)工程研究中，Polos光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了電極結(jié)構(gòu)的精密加工突破。某團(tuán)隊(duì)通過其在鉑銥合金電極表面刻制10μm間距的蜂窩狀微孔，使神經(jīng)元突觸密度提升20%，信號采集噪聲降低35%。其兼容生物相容性材料的特性，還可用于微流控芯片的細(xì)胞培養(yǎng)腔道制作，為腦機(jī)接口、神經(jīng)信號監(jiān)測等前沿領(lǐng)域提供微觀結(jié)構(gòu)支撐。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?

上海有機(jī)化學(xué)研究所通過光刻技術(shù)制備多組分納米纖維，實(shí)現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地，Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工，為新能源器件（如柔性電池）和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復(fù)性（0.1 μm）確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性。掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。高頻元件驗(yàn)證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。

電子學(xué)：芯片研發(fā)的快速原型工具，Polos設(shè)備成為芯片研發(fā)的“快速試錯(cuò)”利器，憑借納米級電路圖案刻制能力，助力科研團(tuán)隊(duì)優(yōu)化集成電路設(shè)計(jì)。上海某研究所利用NWA-100加工的新型電路結(jié)構(gòu)，使芯片能耗降低25%，運(yùn)算速度提升15%。設(shè)備支持任意圖案輸入的靈活性，可適配傳感器、微型處理器等多樣化電子元件需求，無需更換掩模即可完成多版本測試，大幅降低研發(fā)成本。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?生物界面創(chuàng)新：微納結(jié)構(gòu)可控加工，為組織工程提供新型仿生材料解決方案。遼寧德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長

Polos-BESM：基礎(chǔ)款高性價(jià)比，適合高校實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)微納加工。遼寧德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長

2D材料加工：二維異質(zhì)結(jié)的precise構(gòu)筑，在石墨烯等2D材料研究中，Polos光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了異質(zhì)結(jié)的高精度圖案化。利用NWA-100的0.3μm分辨率，科研人員可在石墨烯表面刻制精密電極，構(gòu)建二維晶體管。其非接觸式曝光方式避免了對超薄材料的損傷，配合多種基材兼容特性，還可實(shí)現(xiàn)石墨烯與其他二維材料的precise疊層，為下一代柔性電子器件研發(fā)提供關(guān)鍵工具。德國 Polos 是桌面級紫外激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動技術(shù)普惠。?遼寧德國POLOS光刻機(jī)可以自動聚焦波長