真空滅弧裝置真空滅弧是使觸頭電弧的產(chǎn)生和熄滅在真空中進(jìn)行,它是依據(jù)零點(diǎn)熄弧原理,以真空為熄弧介質(zhì)工作的。在真空中氣體很稀薄,電子的自由行程遠(yuǎn)大于觸頭間的距離。當(dāng)真空度為10-5mm汞柱時(shí),電子的自由行程長達(dá)43m。自由電子在弧隙中作定向運(yùn)動(dòng)時(shí)幾乎不會(huì)和氣體分子或原子相碰撞,不會(huì)產(chǎn)生碰撞游離。所以將觸頭置于真空中斷開時(shí)產(chǎn)生的電弧是由于陰極發(fā)射電子和產(chǎn)生的金屬蒸氣被電離而形成的。當(dāng)電弧電流接近零時(shí),陰極發(fā)射的電子和金屬蒸氣減少,弧隙中殘留的金屬蒸氣和等離子體向周圍真空迅速擴(kuò)散。這樣,弧隙可以在數(shù)微秒之內(nèi)由導(dǎo)電狀態(tài)恢復(fù)到真空間隙的絕緣水平。因此,在真空中觸頭有很高的介質(zhì)恢復(fù)速度、絕緣能力和分?jǐn)嚯娏鞯哪芰?。電弧是一種氣體放電現(xiàn)象,對(duì)電器具有一定的危害。長寧區(qū)定制真空滅弧室性能
特殊用的真空滅弧室是指在特定條件下運(yùn)行的真空滅弧室。例如,托克馬克(Tokmak)設(shè)備上用的真空開關(guān),它要求真空滅弧室既具有開斷接近短路電流的能力,同時(shí)又能作頻繁的操作。這些要求無疑是十分苛刻的,但對(duì)真空滅弧室來說,經(jīng)過嚴(yán)密的設(shè)計(jì)也能滿意地達(dá)到預(yù)期的目標(biāo)。其它如開斷高壓直流用的真空滅弧室、觸發(fā)點(diǎn)火用的真空滅弧室和切斷高頻電流用的真空滅弧室等等。真空滅弧室按不同的觸頭結(jié)構(gòu),可分為平板形觸頭結(jié)構(gòu)、產(chǎn)生橫向磁場(chǎng)的觸頭結(jié)構(gòu)、產(chǎn)生縱向磁場(chǎng)的觸頭結(jié)構(gòu)、縱橫磁場(chǎng)相結(jié)合的觸頭結(jié)構(gòu)(又稱作杯狀觸頭結(jié)構(gòu))和其它特殊型式的觸頭結(jié)構(gòu)等。靜安區(qū)特制真空滅弧室對(duì)比價(jià)由玻璃或陶瓷制成的氣密絕緣外殼、動(dòng)端蓋板、定端蓋板,不銹鋼波紋管組成了氣密絕緣系統(tǒng)。
近陽極區(qū)的長度約等于近陰極區(qū)的幾倍。在電場(chǎng)力的作用下自由電子向陽極運(yùn)動(dòng),它們聚集在陽極附近且不斷被陽極吸收而形成電流。在此區(qū)域內(nèi)聚集著大量的電子形成負(fù)的空間電荷層,產(chǎn)生陽極壓降,其值也隨陽極材料而異,但變化不大,稍小于陰極壓降。由于近陽極區(qū)的長度比近陰極區(qū)的長,故其電場(chǎng)強(qiáng)度較小。陰極壓降與陽極壓降的數(shù)值幾乎與電流大小無關(guān),在材料及介質(zhì)確定后可以認(rèn)為是常數(shù)?;≈鶇^(qū)的長度幾乎與兩電極間的距離相同。是電弧中溫度比較高、亮度**強(qiáng)的區(qū)域。因在自由狀態(tài)下近似圓柱形,故稱弧柱區(qū)。在此區(qū)中正、負(fù)電粒子數(shù)相同,稱等離子區(qū)。由于不存在空間電荷,整個(gè)弧區(qū)的特性類似于一金屬導(dǎo)體。每單位弧柱長度電壓降相等。其電位梯度臣也為一常數(shù),電位梯度與電極材料、電流大小、氣體介質(zhì)種類和氣壓等因素有關(guān)
真空泡內(nèi)的真空滅弧室是利用高真空工作絕緣滅弧介質(zhì),靠密封在真空中的一對(duì)觸頭來實(shí)現(xiàn)電力電路的通斷功能的一種電真空器件。當(dāng)其斷開一定數(shù)值的電流時(shí),動(dòng)靜觸頭在分離的瞬間,電流收縮到觸頭剛分離的 一點(diǎn)上,出現(xiàn)電極間電阻劇烈增大和溫度迅速提高,直至發(fā)生電極金屬的蒸發(fā),同時(shí)形成極高的電場(chǎng)強(qiáng)度,導(dǎo)致極強(qiáng)烈的發(fā)射和間隙擊穿,產(chǎn)生真空電弧,當(dāng)工頻電流接近零時(shí),同時(shí)也是觸頭開距的增大,真空電弧的等離子體很快向四周擴(kuò)散,電弧電流過零后,觸頭間隙的介質(zhì)迅速由導(dǎo)電體變?yōu)榻^緣體,于是電流被分?jǐn)唷S捎谟|頭的特殊構(gòu)造,燃弧期間觸頭間隙會(huì)產(chǎn)適當(dāng)?shù)目v向磁場(chǎng),這個(gè)磁場(chǎng)可使電弧均勻分布在觸頭表面,維持低的電弧電壓,從而使真空滅弧室具有較高弧后介質(zhì)強(qiáng)度恢復(fù)速度,小的電弧能量和小的腐蝕速率。這樣,就提高了真空滅弧室開斷電流的能力和使用壽命。壓強(qiáng)越低則真空度越高。
屏蔽系統(tǒng)真空滅弧室的屏蔽系統(tǒng)主要由屏蔽筒,屏蔽罩和其他零件組成。屏蔽系統(tǒng)的主要作用是:1.防止觸頭在燃弧過程中產(chǎn)生大量的金屬蒸汽和液滴噴濺,污染絕緣外殼的內(nèi)壁,避免造成真空滅弧室外殼的絕緣強(qiáng)度下降或產(chǎn)生閃絡(luò)。2.改善真空滅弧室內(nèi)部的電場(chǎng)分布,有利于真空滅弧室絕緣外殼的小型化,尤其是對(duì)于高電壓的真空滅弧室小型化有***效果。.吸收一部分電弧能量,冷凝電弧生成物。特別是真空滅弧室在開斷短路電流時(shí),電弧所產(chǎn)生的熱能大部分被屏蔽系統(tǒng)所吸收,有利于提高觸頭間的介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度。屏蔽系統(tǒng)吸收電弧生成物的量越大,說明他吸收的能量也越大,這對(duì)增加真空滅弧室的開斷容量起良好作用。高擊穿電壓。擊穿電壓高,介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度就高,對(duì)滅弧有利。長寧區(qū)定制真空滅弧室性能
真空是指在給定的空間內(nèi),遠(yuǎn)低于一個(gè)環(huán)境大氣壓的氣體狀態(tài)。長寧區(qū)定制真空滅弧室性能
泛用于煤礦化工、石油冶金等部門,更適合在頻繁操作和環(huán)境惡劣的地方使用。陶瓷真空滅弧室傳統(tǒng)的排氣工藝主要方式是把部件組裝成待排期的滅弧室,然后裝架在排氣臺(tái)上。用烘箱加熱滅弧室使內(nèi)部零件升溫把氣體排放出來,通過真空系統(tǒng)把這些氣體排出去,待滅弧室內(nèi)氣體壓強(qiáng)低于1*10Pa時(shí),再把它從排氣臺(tái)上封離,這樣真空滅弧室就制造完成。為了提高陶瓷真空滅弧室的生產(chǎn)效率,降**造成本,根據(jù)大量的科學(xué)研究和實(shí)踐,80年代初研究成功了陶瓷真空滅弧室“一次封排”工藝。是先把陶瓷真空滅弧室的零件釬焊成三大部件:動(dòng)管芯,靜管芯、陶瓷絕緣外殼。按總裝配圖要求裝置成滅弧室,再把它放在高真空爐中進(jìn)行釬焊,在升溫過程中,零件放氣被排出,滅弧室內(nèi)達(dá)到高真空,在降溫過程中,各條釬焊焊縫被蜜蜂,使滅弧室排期和封接在高真空爐內(nèi)一次完成。 [2]長寧區(qū)定制真空滅弧室性能
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