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所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為,所述酸的濃度為20重量%至70重量%,所述有機(jī)硫化合物的濃度為%至10重量%。另外,所述α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度推薦為%至5重量%。另外,本發(fā)明涉及一種使用所述蝕刻液在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻方法。發(fā)明的效果本發(fā)明的蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦。另外,本發(fā)明的蝕刻液實(shí)質(zhì)上不含氫氟酸及過(guò)氧化氫,因此毒性低,保存穩(wěn)定性優(yōu)異。具體實(shí)施方式本發(fā)明的蝕刻液為含有選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸與選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物的水溶液。所述酸中,從蝕刻速度的穩(wěn)定性及酸的低揮發(fā)性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為硫酸。酸的濃度并無(wú)特別限制,推薦為20重量%至70重量%,更推薦為30重量%至60重量%。在酸的濃度小于20重量%的情況下,有無(wú)法獲得充分的鈦蝕刻速度的傾向,在超過(guò)70重量%的情況下,有蝕刻液的安全性成問(wèn)題的傾向。BOE蝕刻液生產(chǎn)廠家就找蘇州博洋化學(xué)股份。銅蝕刻液蝕刻液推薦廠家

所述液位計(jì)7安裝于所述分離器的外表面。液位計(jì)7安裝在方便工作人員查看的位置,有利于提高工作人員工作的效率。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述液位開(kāi)關(guān)9為控制閥,設(shè)置于所述濾液出口2處??刂崎y為內(nèi)螺紋截止閥,通過(guò)旋轉(zhuǎn)操縱盤(pán)實(shí)現(xiàn)閥門(mén)的開(kāi)關(guān),這種閥結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,維修方便,工作行程小,啟閉時(shí)間短,使用壽命長(zhǎng)。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖2所示,所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)視鏡10。分離器側(cè)壁上設(shè)置的視鏡10可以幫助工作人員輔助判斷液位計(jì)7的工作狀況。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述加熱器11為盤(pán)管式加熱器。盤(pán)管式加熱器的受熱更加均勻,加熱效率更高。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述分離器底部為錐體形狀。分離器底部設(shè)置成錐體形狀更有利于濾液排出,不會(huì)殘留在分離器內(nèi)。以上所述是本實(shí)用新型的推薦實(shí)施方式,本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于上述實(shí)施例,凡屬于本實(shí)用新型思路下的技術(shù)方案均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型原理前提下的若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。蘇州銅蝕刻液蝕刻液銷(xiāo)售電話選擇博洋蝕刻液,提升蝕刻效率,降低成本。

銀蝕刻液主要用于印刷線路板制造,銀器及銀合金的蝕刻、標(biāo)牌制作。二、突出特點(diǎn)1.蝕刻速度快,效率高。使用方便。蝕刻最高速度可達(dá)2000納米/秒。2.可循環(huán)使用,無(wú)廢液排放。三、理化指標(biāo)外觀:液體;氣味:微;比重:1.05±0.1;pH:偏堿性四、使用方法1.預(yù)處理:如銀或銅合金表面不潔凈,需對(duì)表面進(jìn)行潔凈處理,如除油、除雜等。2.蝕刻:(1).將圖案模板紙粘附于銀板或銀器上,再將銀蝕刻液用噴淋設(shè)備噴于圖案處,時(shí)間1分鐘到幾十分鐘不定(用戶可根據(jù)蝕刻要求自行試驗(yàn)時(shí)間,因模板紙不同,時(shí)間也不同),揭去模板紙,用清水沖掉殘物。(2).用100-200T的絲網(wǎng),75度硬度的聚酯刮膠,將光固化抗蝕刻油墨印刷在基板上,然后將油墨在紫外燈下光照20—30秒鐘,(紫外光能量為1000mj/cm2)。用噴淋的方式進(jìn)行蝕刻,溫度50±5℃,壓力1-3kg/cm2時(shí)間1分鐘到幾分鐘,(具體時(shí)間根據(jù)蝕刻深度而定)。然后,用1%--3%的氫氧化鈉溶液將光固化抗蝕刻油墨溶解出去。
制備裝置主體1的內(nèi)部中間部位活動(dòng)連接有高效攪拌裝置2,制備裝置主體1的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板4,制備裝置主體1的底端固定連接有裝置底座5,裝置底座5的內(nèi)部底部固定連接有成品罐6,裝置底座5的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐7,裝置底座5的頂端另一側(cè)固定連接有硝酸裝罐8,高效攪拌裝置2的內(nèi)部頂部中間部位活動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤(pán)12,高效攪拌裝置2的內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)活動(dòng)連接有震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14的頂端固定連接有運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13,運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13的頂端電性連接有控制面板15,高效攪拌裝置2的內(nèi)部中間部位固定連接有致密防腐桿16,致密防腐桿16的內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)貫穿連接有攪動(dòng)孔17,鹽酸裝罐7的內(nèi)部一側(cè)嵌入連接有嵌入引流口22,嵌入引流口22的一端固定連接有負(fù)壓引流器21,負(fù)壓引流器21的一端固定連接有注入量控制容器18,注入量控制容器18的內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)固定連接有注入量觀察刻度線19,注入量控制容器18的一側(cè)嵌入連接有限流銷(xiāo)20。推薦的,翻折觀察板4的內(nèi)部頂部活動(dòng)連接有觀察窗翻折滾輪401,觀察窗翻折滾輪401的底端活動(dòng)連接有內(nèi)嵌觀察窗402,該裝置在進(jìn)行制備時(shí),具有一定的危險(xiǎn)性,工作人員無(wú)法直接對(duì)其內(nèi)部的運(yùn)行狀況進(jìn)行很好的實(shí)時(shí)查看,通過(guò)設(shè)置內(nèi)嵌觀察窗402。BOE蝕刻液的溶液配比。

如前文所述,必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題,因此,該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖9所示)。再者,請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D10至圖12所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖、其三較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔與斜錐孔混合的態(tài)樣(如圖10所示),或是全部為斜錐孔的態(tài)樣(如圖11所示),其中該宣泄孔121具有一***壁面1211與一第二壁面1212,且該第二擋板12具有一下表面122,當(dāng)該宣泄孔121為斜錐孔的態(tài)樣時(shí),該***壁面1211與該下表面122的***夾角θ1不同于該第二壁面1212與該下表面122的第二夾角θ2,亦即該***壁面1211與該第二壁面1212可不互相平行,但應(yīng)避免該***夾角θ1與該第二夾角θ2差距過(guò)大而造成毛細(xì)現(xiàn)象破除;此外,當(dāng)該宣泄孔121為斜錐孔態(tài)樣時(shí)。上海和輝光電用的哪家的蝕刻液?上海格林達(dá)蝕刻液私人定做
蘇州性價(jià)比高的蝕刻液。銅蝕刻液蝕刻液推薦廠家
負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,上述氧化物膜推薦包含sio2,上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問(wèn)題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時(shí),能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良(參照?qǐng)D2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良在添加劑的防蝕能力強(qiáng)于適宜水平時(shí)發(fā)生,氧化物膜不良在添加劑的防蝕能力弱于適宜水平時(shí)發(fā)生。以下,對(duì)于本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的磷酸、作為添加劑的硅烷(silane)系偶聯(lián)劑以及進(jìn)行更詳細(xì)的說(shuō)明。(a)磷酸本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作為主氧化劑可以在使氮化物膜氧化時(shí)使用。相對(duì)于組合物總重量,上述磷酸的含量為50~95重量%,推薦為80~90重量%。在上述磷酸的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下。銅蝕刻液蝕刻液推薦廠家