電鍍?cè)O(shè)備是通過(guò)電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置，用于形成保護(hù)性或功能性涂層。

其系統(tǒng)包括：

電解電源：提供0-24V直流電，電流可達(dá)數(shù)千安培，適配不同鍍種需求；

電解槽：耐腐蝕材質(zhì)（如PP/PVDF），雙層防漏設(shè)計(jì)，容積0.5-10m3；

電極系統(tǒng)：陽(yáng)極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃，陰極掛具定制設(shè)計(jì)，確保接觸電阻＜0.1Ω；

控制系統(tǒng)：精細(xì)溫控（±1℃）、pH監(jiān)測(cè)（±0.1）及鍍層厚度管理。

設(shè)備分類(lèi)：

掛鍍線(xiàn)：精密件加工，厚度均勻性±5%；

滾鍍系統(tǒng)：小件批量處理，效率3-8㎡/h；

連續(xù)電鍍線(xiàn)：帶材/線(xiàn)材高速生產(chǎn)，產(chǎn)能達(dá)30㎡/h；選擇性電鍍：數(shù)控噴射，局部鍍層精度±3%。技術(shù)前沿：脈沖電鍍：納米晶結(jié)構(gòu)（晶粒＜50nm），孔隙率降低60%；

復(fù)合電鍍：添加納米顆粒（SiC/Al?O?），硬度達(dá)HV1200；智能化：機(jī)器視覺(jué)定位（±0.1mm），大數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)優(yōu)化工藝。環(huán)保與應(yīng)用：閉路水循環(huán)（回用率＞90%）及重金屬回收技術(shù)；汽車(chē)（耐鹽霧＞720h）、PCB（微孔鍍銅偏差＜8%）、航空航天（耐溫800℃）等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。設(shè)備正向高精度、低能耗、智能化發(fā)展，納米電鍍等新技術(shù)持續(xù)突破工藝極限。選型需結(jié)合基材特性、鍍層需求及成本綜合考量。 納米鍍層設(shè)備通過(guò)超聲攪拌與脈沖電源結(jié)合，制備微米級(jí)致密鍍層，滿(mǎn)足航空航天部件的超高防腐需求。廣東陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備

半導(dǎo)體掛鍍?cè)O(shè)備

1.基本原理與結(jié)構(gòu)

掛鍍工藝：晶圓固定在掛具上，浸入電鍍液，通過(guò)精細(xì)控制電流、電壓及溶液成分，在表面沉積均勻金屬層。

組件：

電鍍槽：耐腐蝕材質(zhì)，配備溫控、循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)，維持鍍液均勻性

掛具與陽(yáng)極：鈦或鉑金陽(yáng)極，掛具設(shè)計(jì)適配晶圓尺寸，確保電場(chǎng)分布均勻

自動(dòng)化傳輸：機(jī)械臂自動(dòng)上下料，減少人工污染風(fēng)險(xiǎn)

控制系統(tǒng)：PLC/計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)調(diào)控電流密度、電鍍時(shí)間、pH值等參數(shù)

2. 關(guān)鍵技術(shù)優(yōu)勢(shì)

高均勻性：通過(guò)脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)（如ECP），減少邊緣效應(yīng)，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)鍍層均勻性

低缺陷率：鍍液雜質(zhì)控制（＜0.1ppm）與膜厚在線(xiàn)監(jiān)測(cè)，降低孔洞、結(jié)節(jié)等缺陷

高產(chǎn)能：支持多晶圓并行處理

3. 典型應(yīng)用場(chǎng)景

芯片制造：

銅互連：在邏輯芯片中沉積多層銅導(dǎo)線(xiàn)，替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻

TSV填充：為3D封裝提供垂直導(dǎo)電通道，實(shí)現(xiàn)芯片堆疊

先進(jìn)封裝：

凸塊電鍍：在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊，用于Flip-Chip鍵合

RDL（重布線(xiàn)層）：沉積銅層實(shí)現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局

總結(jié)

半導(dǎo)體掛鍍?cè)O(shè)備通過(guò)精密電化學(xué)控制與自動(dòng)化技術(shù)，解決了納米級(jí)金屬沉積的均勻性與可靠性難題，是先進(jìn)芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導(dǎo)電性、散熱及良率 河南電鍍?cè)O(shè)備周邊產(chǎn)業(yè)離心干燥設(shè)備適配滾鍍后工件，通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)甩干水分，避免傳統(tǒng)熱風(fēng)干燥的能耗與時(shí)間損耗。

全自動(dòng)磷化線(xiàn)工作流程

1.前處理：晶圓清洗、去氧化層、活化表面。

2.裝載：將晶圓固定于旋轉(zhuǎn)載具，浸入鍍液。

3.電鍍：

施加電流，金屬離子在晶圓表面還原沉積。

旋轉(zhuǎn)載具確保鍍液流動(dòng)均勻，消除厚度差異。

4.后處理：鍍層退火、清洗、干燥。

技術(shù)特點(diǎn)

1.高均勻性：

旋轉(zhuǎn)+噴淋設(shè)計(jì)減少“邊緣增厚”現(xiàn)象，鍍層均勻性達(dá)±5%以?xún)?nèi)。

2.精密控制：電流密度精度：±1 mA/cm2；溫度波動(dòng)：±0.5℃。

3.潔凈度保障：設(shè)備內(nèi)建HEPA過(guò)濾系統(tǒng)，滿(mǎn)足Class 1000以下潔凈環(huán)境。

4.高效生產(chǎn)：支持多片晶圓同時(shí)處理（如6片/批次），UPH（每小時(shí)產(chǎn)量）可達(dá)50~100片。

應(yīng)用場(chǎng)景

1.先進(jìn)封裝：2.5D/3D IC的TSV鍍銅、Fan-Out封裝中的RDL金屬化。

2.功率器件：IGBT、MOSFET背面金屬化（鍍銀、鍍鎳）。

3.傳感器與MEMS：微結(jié)構(gòu)表面鍍金，提升電氣性能與可靠性。

精密電子元件叁筒滾鍍線(xiàn)

一、設(shè)備概述:

適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬；鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。

降低孔隙率，晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度，促使晶核細(xì)化。

改善結(jié)合力，使鈍化膜擊穿，有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。

改善覆蓋能力和分散能力，高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積，掛鍍生產(chǎn)線(xiàn)設(shè)備，減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過(guò)度消耗而帶來(lái)的“燒焦”“樹(shù)枝狀”沉積的缺陷，對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層的厚度可減少到原來(lái)1/3~1/2，節(jié)省原材料。

降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力，改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等，容易得到無(wú)裂紋的鍍層，減少添加劑。

有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。

改善陽(yáng)極的溶解，不需陽(yáng)極活化劑。

改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能，如提高密度，降低表面電阻和體電阻，提高韌性、耐磨性、抗蝕性，而且可以控制鍍層硬度。 檢測(cè)設(shè)備配備 X 射線(xiàn)測(cè)厚儀與 pH 傳感器，在線(xiàn)監(jiān)測(cè)鍍層厚度及藥液參數(shù)，實(shí)時(shí)反饋并修正工藝偏差。

傳統(tǒng)的電鍍抑制副作用的產(chǎn)生、改善電流分布、調(diào)節(jié)液相傳質(zhì)過(guò)程、控制結(jié)晶取向顯得毫無(wú)作用，面對(duì)絡(luò)合劑和添加劑的研究，成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開(kāi)關(guān)電源解決了傳統(tǒng)整流器存在的缺陷。提高產(chǎn)品成品率、產(chǎn)品質(zhì)量。這些產(chǎn)品可適用于電鍍、電子、化工、氧化著色等行業(yè)。

滾鍍機(jī)的應(yīng)用場(chǎng)景：

滾鍍機(jī)決定生產(chǎn)線(xiàn)的適用工件類(lèi)型滾

1.鍍機(jī)適用的工件特征

尺寸：直徑通常＜50mm，如螺絲、螺母、彈簧、電子連接器、小五金件。

形狀：規(guī)則或輕微不規(guī)則（避免卡孔或纏繞，影響滾筒旋轉(zhuǎn)）。

批量：適合萬(wàn)件級(jí)以上的大批量生產(chǎn)（如標(biāo)準(zhǔn)件電鍍），小批量生產(chǎn)時(shí)滾鍍機(jī)效率優(yōu)勢(shì)下降。

2.對(duì)電鍍生產(chǎn)線(xiàn)的適配性

若生產(chǎn)線(xiàn)以滾鍍機(jī)為鍍槽設(shè)備，則整體設(shè)計(jì)圍繞 “小件批量處理” 優(yōu)化：

前處理槽體深度、寬度適配滾筒尺寸；

傳輸裝置采用適合滾筒吊裝的懸掛鏈或龍門(mén)架；

電源功率匹配滾筒內(nèi)工件總表面積（電流需均勻分布）。

反之，若生產(chǎn)線(xiàn)以?huà)戾優(yōu)橹鳎ㄈ缙?chē)配件、裝飾件），則鍍槽、傳輸系統(tǒng)設(shè)計(jì)完全不同，體現(xiàn) “定制化生產(chǎn)線(xiàn)” 特性。 自動(dòng)化電鍍線(xiàn)的機(jī)器人上下料系統(tǒng)，通過(guò)視覺(jué)識(shí)別定位工件，實(shí)現(xiàn)高精度無(wú)人化操作。湖南一體式電鍍?cè)O(shè)備

貴金屬電鍍?cè)O(shè)備配備高精度電源與凈化系統(tǒng)，嚴(yán)格控制金、銀鍍層純度，滿(mǎn)足珠寶及電子芯片的高要求。廣東陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備

電鍍生產(chǎn)線(xiàn)的類(lèi)型

1.掛鍍生產(chǎn)線(xiàn)：適用于各種形狀和尺寸的零件，尤其是較大型、批量較小的零件，能夠保證零件的電鍍質(zhì)量和均勻性。

應(yīng)用：汽車(chē)零部件、機(jī)械零件、五金制品等行業(yè)，如汽車(chē)輪轂、自行車(chē)車(chē)架、門(mén)把手等的電鍍。

2.滾鍍生產(chǎn)線(xiàn)：該生產(chǎn)線(xiàn)生產(chǎn)效率高，適合于大批量、小尺寸零件的電鍍。

應(yīng)用：常見(jiàn)于電子元件、緊固件、小飾品等行業(yè)，如螺絲、螺母、電子引腳、拉鏈等的電鍍。

3.連續(xù)鍍生產(chǎn)線(xiàn)：具有自動(dòng)化程度高、生產(chǎn)速度快、鍍層均勻等優(yōu)點(diǎn)，能夠?qū)崿F(xiàn)高效、穩(wěn)定的生產(chǎn)。

應(yīng)用：用于電子、電器行業(yè)的帶狀材料，如電子線(xiàn)路板的電鍍、電線(xiàn)電纜的鍍錫等。

4.塑料電鍍生產(chǎn)線(xiàn)：由于塑料本身不導(dǎo)電，需要先對(duì)塑料零件進(jìn)行特殊的前處理，如化學(xué)鍍等，使其表面形成一層導(dǎo)電層，然后再進(jìn)行常規(guī)的電鍍工藝。塑料電鍍生產(chǎn)線(xiàn)需要增加專(zhuān)門(mén)的塑料前處理設(shè)備和工藝。

應(yīng)用：在汽車(chē)內(nèi)飾件、電子產(chǎn)品外殼、裝飾品等領(lǐng)域，如汽車(chē)儀表盤(pán)、手機(jī)外殼、塑料紐扣等的電鍍。

5.貴金屬電鍍生產(chǎn)線(xiàn)：用于電鍍金、銀、鉑等貴金屬，對(duì)電鍍工藝和設(shè)備的要求較高，需要精確控制電鍍參數(shù)，以保證貴金屬鍍層的質(zhì)量和純度。

應(yīng)用：用于珠寶首飾、電子工業(yè)、航空航天等領(lǐng)域，如首飾的鍍金、電子芯片的鍍金絲等。 廣東陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備