是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備,主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過(guò)可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝,實(shí)現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋,滿足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求
與傳統(tǒng)滾鍍不同,半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。
1.金屬互連:在晶圓上形成銅導(dǎo)線。
2.凸塊制備:沉積錫、銅、金等材料,用于芯片與基板的電氣連接。
3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦、鉭等材料,防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。
1.電鍍槽:
材質(zhì):耐腐蝕材料,避免污染鍍液
鍍液循環(huán)系統(tǒng):維持鍍液成分均勻,過(guò)濾顆粒雜質(zhì)
2.旋轉(zhuǎn)載具:
晶圓固定裝置:真空吸附或機(jī)械夾持,確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)
轉(zhuǎn)速控制:通過(guò)伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速,優(yōu)化鍍層均勻性
3.陽(yáng)極系統(tǒng):
可溶性/不溶性陽(yáng)極:銅、鉑等材料,依鍍層需求選擇
陽(yáng)極位置調(diào)節(jié):控制電場(chǎng)分布,減少邊緣效應(yīng)
4.供液與噴淋系統(tǒng):
多點(diǎn)噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留
流量控制:精確調(diào)節(jié)鍍液流速,匹配不同工藝需求
5.控制系統(tǒng):
PLC/工控機(jī):集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測(cè)與反饋。
配方管理:存儲(chǔ)不同鍍層的工藝參數(shù) 模塊化電鍍?cè)O(shè)備支持槽體自由組合,可快速切換掛鍍、滾鍍模式,靈活適配多品種小批量生產(chǎn)需求。電鍍?cè)O(shè)備配件

一、零件特性:從形狀到材質(zhì)的精細(xì)適配
1. 形狀復(fù)雜度
規(guī)則件--(如螺絲、螺母):優(yōu)先選擇臥式滾鍍機(jī),六棱柱滾筒設(shè)計(jì)(開孔率 20%-40%)可實(shí)現(xiàn)零件均勻翻滾,鍍層均勻性達(dá) 95% 以上
精密件--(如半導(dǎo)體引線框架):采用振動(dòng)電鍍機(jī),通過(guò)電磁振動(dòng)(振幅 0.1-2mm)減少零件碰撞,鍍層厚度偏差≤±5μm,孔隙率可降至 0.4 個(gè) /cm2 以下。
復(fù)雜件--(如帶盲孔的航空零件):離心滾鍍機(jī)(轉(zhuǎn)速 50-200rpm)利用離心力強(qiáng)化鍍液滲透,鍍層致密性提升 30%,適合功能性鍍層(如鍍硬鉻)。
2. 材質(zhì)與尺寸
脆性材料(如陶瓷、玻璃):選擇傾斜式滾筒,降低翻滾沖擊力,避免零件破損。
微型零件(如電子元件):精密微型滾鍍機(jī)(滾筒容量≤5L)適配,菱形網(wǎng)孔(開孔率>45%)和螺旋導(dǎo)流板設(shè)計(jì)確保鍍層均勻,孔隙率<0.1%10。
大型零件(如汽車輪轂):需定制非標(biāo)臥式滾鍍機(jī),單槽負(fù)載可達(dá) 50kg,配合變頻調(diào)速(0.5-15rpm)實(shí)現(xiàn)鍍層厚度可控。
二、鍍層工藝:從基礎(chǔ)防護(hù)到功能
1. 鍍層類型
防護(hù)性鍍層(鍍鋅、鎳):
鍍鋅:適合電子元件。
鍍鎳:用于衛(wèi)浴五金
功能性鍍層(硬鉻、貴金屬):
硬鉻:需搭配三價(jià)鉻工藝(毒性降低 96%)。
鍍金 / 銀:需選擇磁耦合驅(qū)動(dòng)設(shè)備,防止鍍液泄漏。 電鍍?cè)O(shè)備配件連續(xù)鍍?cè)O(shè)備針對(duì)鋼帶、銅線等帶狀材料,通過(guò)自動(dòng)化傳輸實(shí)現(xiàn)高速電鍍,常見于電子線路板鍍錫。

雙筒過(guò)濾機(jī)特點(diǎn):一機(jī)具備多功能用途,可依據(jù)客戶使用條件,更換不同濾材。主濾筒采用耐腐蝕的PP/FRPP/PVDF一體注塑成型,耐酸堿腐蝕、防泄漏,且提供多種濾芯規(guī)格,可按精度需求選擇,滿足多元化應(yīng)用。整機(jī)安裝與操作簡(jiǎn)便,清洗便捷高效,占地面積小。支持根據(jù)客戶不同需求,選擇濾筒材質(zhì)。適用領(lǐng)域,包括電鍍、氧化、表面處理等多種工藝環(huán)節(jié)。分享不同材質(zhì)的濾芯在電鍍?cè)O(shè)備中的過(guò)濾效果有何差異?雙筒過(guò)濾機(jī)的價(jià)格區(qū)間是多少?濾芯式過(guò)濾機(jī)在電鍍行業(yè)中的市場(chǎng)占比是多少?
滾鍍機(jī)的應(yīng)用場(chǎng)景:
滾鍍機(jī)決定生產(chǎn)線的適用工件類型滾
1.鍍機(jī)適用的工件特征
尺寸:直徑通常<50mm,如螺絲、螺母、彈簧、電子連接器、小五金件。
形狀:規(guī)則或輕微不規(guī)則(避免卡孔或纏繞,影響滾筒旋轉(zhuǎn))。
批量:適合萬(wàn)件級(jí)以上的大批量生產(chǎn)(如標(biāo)準(zhǔn)件電鍍),小批量生產(chǎn)時(shí)滾鍍機(jī)效率優(yōu)勢(shì)下降。
2.對(duì)電鍍生產(chǎn)線的適配性
若生產(chǎn)線以滾鍍機(jī)為鍍槽設(shè)備,則整體設(shè)計(jì)圍繞 “小件批量處理” 優(yōu)化:
前處理槽體深度、寬度適配滾筒尺寸;
傳輸裝置采用適合滾筒吊裝的懸掛鏈或龍門架;
電源功率匹配滾筒內(nèi)工件總表面積(電流需均勻分布)。
反之,若生產(chǎn)線以掛鍍?yōu)橹鳎ㄈ缙嚺浼?、裝飾件),則鍍槽、傳輸系統(tǒng)設(shè)計(jì)完全不同,體現(xiàn) “定制化生產(chǎn)線” 特性。 掛具設(shè)計(jì)作為電鍍?cè)O(shè)備附件,采用導(dǎo)電性能優(yōu)異的銅合金或不銹鋼,減少接觸電阻以保障電流均勻傳導(dǎo)。

一、設(shè)備概述:
適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬;鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。
降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度,促使晶核細(xì)化。
改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。
改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,掛鍍生產(chǎn)線設(shè)備,減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過(guò)度消耗而帶來(lái)的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層的厚度可減少到原來(lái)1/3~1/2,節(jié)省原材料。
降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力,改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等,容易得到無(wú)裂紋的鍍層,減少添加劑。
有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。
改善陽(yáng)極的溶解,不需陽(yáng)極活化劑。
改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能,如提高密度,降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性,而且可以控制鍍層硬度。 貴金屬電鍍?cè)O(shè)備配備高精度電源與凈化系統(tǒng),嚴(yán)格控制金、銀鍍層純度,滿足珠寶及電子芯片的高要求。四川環(huán)保型電鍍?cè)O(shè)備
廢氣處理設(shè)備配套槽邊吸氣罩與洗滌塔,中和電鍍過(guò)程中揮發(fā)的酸堿廢氣,符合環(huán)保排放要求。電鍍?cè)O(shè)備配件
1.鍍槽:是電鍍加工的設(shè)備,用于盛放電鍍液,為電鍍提供反應(yīng)場(chǎng)所。根據(jù)電鍍工藝和工件的不同,鍍槽的材質(zhì)、形狀和尺寸也各不相同,常見的有聚丙烯、聚四氟乙烯等材質(zhì)制成的鍍槽。
2.整流器:其作用是將交流電轉(zhuǎn)換為直流電,為電鍍過(guò)程提供穩(wěn)定的電流。電鍍過(guò)程需要精確控制電流的大小和穩(wěn)定性,以確保電鍍層的質(zhì)量和性能。
3.過(guò)濾機(jī):用于過(guò)濾電鍍液中的雜質(zhì)、顆粒和懸浮物,保持電鍍液的清潔度。過(guò)濾機(jī)通常采用濾芯式或?yàn)V袋式過(guò)濾,可根據(jù)電鍍液的性質(zhì)和過(guò)濾精度要求選擇不同的過(guò)濾材料。
4.加熱和冷卻裝置:加熱裝置通常采用電加熱或蒸汽加熱的方式,而冷卻裝置則多采用冷水機(jī)或冷卻塔進(jìn)行冷卻。
5.攪拌設(shè)備:包括機(jī)械攪拌和空氣攪拌等方式。
6.掛具:用于懸掛和固定待電鍍的工件,使工件能夠在電鍍槽中與電鍍液充分接觸,并保證電流均勻地通過(guò)工件。7.行車:主要用于在電鍍車間內(nèi)吊運(yùn)工件、原材料和成品等重物。
8.廢氣處理設(shè)備:電鍍過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生各種有害氣體,如酸霧、堿霧和重金屬?gòu)U氣等。廢氣處理設(shè)備通常采用噴淋塔、活性炭吸附裝置、催化燃燒裝置等,對(duì)廢氣進(jìn)行凈化處理,達(dá)標(biāo)后排放。 電鍍?cè)O(shè)備配件