是電鍍自動化生產(chǎn)系統(tǒng)的控制單元,主要用于協(xié)調(diào)龍門機械手、電鍍槽、電源系統(tǒng)、液位/溫度傳感器等設(shè)備的運行,確保電鍍工藝精細執(zhí)行。
特性說明:主要電器采用西門子及三菱PLC、歐姆龍、富士電器等品牌,每一臺行車可自動、半自動轉(zhuǎn)換,開放式自由程序選擇,智能控制管理,在電腦和人機界面觸摸屏對數(shù)據(jù)實時處理及進行有效監(jiān)控,設(shè)計科學合理、緊湊、自動化程度高;用于ABS塑料、汽車、五金、電子、衛(wèi)浴、燈飾家電等行業(yè) 硬質(zhì)陽極氧化設(shè)備集成低溫制冷系統(tǒng),控制電解液溫度在 0-10℃,生成厚度超 100μm 的耐磨膜層。江蘇電鍍設(shè)備價格

陽極氧化線的特點
1.膜層與基體一體化:氧化膜為金屬自身氧化物,結(jié)合力遠超電鍍或噴涂的外來涂層,不易脫落。
2.功能可定制化:
防腐:致密膜層隔絕腐蝕介質(zhì),鋁陽極氧化膜耐鹽霧可達 500 小時以上。
耐磨:硬質(zhì)陽極氧化膜(厚度 50~200μm)硬度接近陶瓷,適用于活塞、齒輪等機械部件。
裝飾:通過染色或電解著色實現(xiàn)多樣化外觀(如手機殼、建筑鋁型材)。
絕緣 / 散熱:高電阻率膜層用于電器絕緣,多孔結(jié)構(gòu)可提升散熱效率(如 LED 燈具)。
3.環(huán)保特性:傳統(tǒng)鉻酸工藝含重金屬,需配套廢水處理;現(xiàn)代主流為硫酸陽極氧化 + 無鉻封孔,環(huán)保性提升。4.材料適應(yīng)性:主要針對鋁、鎂、鈦等輕金屬,鋼鐵等材料因氧化膜疏松少用。 重慶電鍍設(shè)備供應(yīng)商家耐溫設(shè)備針對高溫電鍍工藝(如黑色氧化處理),槽體采用耐高溫 FRP 材質(zhì),耐受 100℃以上藥液長期侵蝕。

高精度定位
伺服系統(tǒng)+光柵尺反饋,確保工件浸鍍位置誤差<1mm適用于精密電子接插件、汽車精密部件等對鍍層均勻性要求高的場景(厚度偏差±3-5%)。
多工藝兼容性
可集成除油、酸洗、電鍍、鈍化、烘干等20+工序支持掛鍍、滾鍍(通過可切換掛具)混合生產(chǎn)
柔性化生產(chǎn)
通過編程快速切換工件類型(換型時間<30分鐘)支持小批量多品種(如同時處理10種不同規(guī)格螺栓)
穩(wěn)定性強
故障率<0.5%(關(guān)鍵部件如電機、傳感器采用工業(yè)級防護)連續(xù)運行壽命>10萬小時
行業(yè) 應(yīng)用案例 工藝要求 汽車制造 發(fā)動機支架鍍鋅、輪轂鍍鉻 耐鹽霧>720小時,厚度10-15μm
電子行業(yè) 手機接口鍍金、PCB接插件鍍鎳 鍍層 孔隙率<5個/cm2 五金 衛(wèi)浴鍍銅鎳鉻三鍍層 表面粗糙度Ra<0.2μm
根據(jù)工藝類型和應(yīng)用場景的不同,可分為以下幾大類:
一、傳統(tǒng)濕法電鍍設(shè)備
1. 前處理設(shè)備
清洗設(shè)備
酸洗/堿洗槽
電解脫脂設(shè)備
2.電鍍槽
鍍槽主體:耐酸堿材質(zhì)的槽體
加熱/冷卻系統(tǒng):控制電鍍液溫度
攪拌裝置:機械攪拌、空氣攪拌或磁力攪拌
3.電源與控制系統(tǒng)
整流器:提供直流電源,控制電流密度和電壓
自動化控制:PLC或觸摸屏系統(tǒng)
4. 后處理設(shè)備
水洗槽:
烘干設(shè)備
拋光設(shè)備
5. 環(huán)保與輔助設(shè)備
廢水處理系統(tǒng):中和池、沉淀池、膜過濾設(shè)備
廢氣處理設(shè)備:酸霧吸收塔、活性炭吸附裝置
二、其他電鍍設(shè)備
1. 連續(xù)電鍍設(shè)備
滾鍍機:用于小件批量電鍍(如螺絲、紐扣)
掛鍍線:自動懸掛輸送系統(tǒng),適合大件(如汽車零件)連續(xù)電鍍
2. 選擇性電鍍設(shè)備
筆式電鍍工具
3. 化學鍍設(shè)備
無電解鍍槽:無需外接電源,通過化學反應(yīng)沉積金屬(如化學鍍鎳、鍍銅)
三、設(shè)備選型與應(yīng)用場景
電鍍類型 典型設(shè)備 應(yīng)用領(lǐng)域 裝飾性電鍍 (鍍鉻、鍍金) 掛鍍線、拋光機、真空鍍膜機 珠寶、衛(wèi)浴五金、汽車裝飾件 功能性電鍍(鍍鎳、鍍鋅) 滾鍍機、脈沖電源、廢水處理系統(tǒng) 機械零件防腐、電子元件導電層 高精度電鍍 水平電鍍線、化學鍍設(shè)備 印刷電路板微孔金屬化 耐磨/耐高溫鍍層 PVD/CVD設(shè)備、離子鍍系統(tǒng) 刀具涂層、航空發(fā)動機葉片 貴金屬電鍍設(shè)備配備高精度電源與凈化系統(tǒng),嚴格控制金、銀鍍層純度,滿足珠寶及電子芯片的高要求。

廢氣凈化設(shè)備的技術(shù)升級與環(huán)保效益:電鍍廢氣處理設(shè)備通過多級凈化技術(shù)實現(xiàn)達標排放。酸霧凈化塔采用逆流噴淋+纖維除霧工藝,對HCl、H?SO?等酸性廢氣的去除率達99%以上。工廠新增活性炭吸附+催化燃燒裝置,將VOCs濃度從200mg/m3降至15mg/m3以下。設(shè)備集成在線監(jiān)測儀表,實時顯示廢氣流量、溫度和污染物濃度,超標時自動觸發(fā)應(yīng)急處理程序。在鍍鉻車間,采用離子液吸收技術(shù)替代傳統(tǒng)堿液,吸收效率提升至98%,同時降低30%的藥劑消耗。通過廢氣處理設(shè)備升級,企業(yè)可滿足《電鍍污染物排放標準》(GB21900-2008)特別排放限值要求。陽極裝置分可溶性(如鋅板、銅板)與不溶性(如鉛板),維持電解液金屬離子濃度,保障電鍍反應(yīng)持續(xù)穩(wěn)定。廣東機械電鍍設(shè)備
納米鍍層設(shè)備通過超聲攪拌與脈沖電源結(jié)合,制備微米級致密鍍層,滿足航空航天部件的超高防腐需求。江蘇電鍍設(shè)備價格
掛鍍工藝:晶圓固定在掛具上,浸入電鍍液,通過精細控制電流、電壓及溶液成分,在表面沉積均勻金屬層。
電鍍槽:耐腐蝕材質(zhì),配備溫控、循環(huán)過濾系統(tǒng),維持鍍液均勻性
掛具與陽極:鈦或鉑金陽極,掛具設(shè)計適配晶圓尺寸,確保電場分布均勻
自動化傳輸:機械臂自動上下料,減少人工污染風險
控制系統(tǒng):PLC/計算機實時調(diào)控電流密度、電鍍時間、pH值等參數(shù)
高均勻性:通過脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)(如ECP),減少邊緣效應(yīng),實現(xiàn)亞微米級鍍層均勻性
低缺陷率:鍍液雜質(zhì)控制(<0.1ppm)與膜厚在線監(jiān)測,降低孔洞、結(jié)節(jié)等缺陷
高產(chǎn)能:支持多晶圓并行處理
銅互連:在邏輯芯片中沉積多層銅導線,替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻
TSV填充:為3D封裝提供垂直導電通道,實現(xiàn)芯片堆疊
凸塊電鍍:在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊,用于Flip-Chip鍵合
RDL(重布線層):沉積銅層實現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局
半導體掛鍍設(shè)備通過精密電化學控制與自動化技術(shù),解決了納米級金屬沉積的均勻性與可靠性難題,是先進芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導電性、散熱及良率 江蘇電鍍設(shè)備價格