HP醇硫基丙烷磺酸鈉通過(guò)抑制有機(jī)雜質(zhì)積累，可將酸性鍍銅液壽命延長(zhǎng)至傳統(tǒng)工藝的2倍以上。與PN、PPNI等分解促進(jìn)劑協(xié)同作用時(shí)，鍍液COD值增長(zhǎng)速率降低60%。用戶(hù)可通過(guò)定期監(jiān)測(cè)HP濃度（建議每周檢測(cè)1次），配合0.1-0.3A/dm2小電流電解，實(shí)現(xiàn)鍍液長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行，年維護(hù)成本節(jié)省超10萬(wàn)元。在IC引線框架鍍銅領(lǐng)域，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量，實(shí)現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm的超細(xì)鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合，可精細(xì)調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ·cm），滿(mǎn)足高頻信號(hào)傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時(shí)，HP消耗量低至0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車(chē)間標(biāo)準(zhǔn)。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司致力于在電化學(xué)、新能源化學(xué)、生物化學(xué)領(lǐng)域深耕細(xì)作。鎮(zhèn)江電鑄硬銅HP醇硫基丙烷磺酸鈉源頭廠家

HP 醇硫基丙烷磺酸鈉外 觀： 白色粉末溶 性： 含 量： 98%以上包 裝： 1kg封口塑料袋；25kg紙箱；25kg防盜紙板桶。參考配方： 五金酸性鍍銅工藝配方-非染料體系、五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系、線路板酸銅工藝配方、電鑄硬銅工藝配方電解銅箔工藝配方。HP是用于酸性鍍銅液中，取代傳統(tǒng)SP（聚二硫二丙烷磺酸鈉）的晶粒細(xì)化劑；與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮，用量范圍寬。多加不發(fā)霧，低區(qū)效果好等優(yōu)點(diǎn)；適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量：0.5-0.8g/KAH。江蘇表面活性劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%以客戶(hù)需求為導(dǎo)向，江蘇夢(mèng)得提供定制化的化學(xué)材料解決方案。

HP醇硫基丙烷磺酸鈉在及海洋設(shè)備鍍銅領(lǐng)域表現(xiàn)突出。通過(guò)調(diào)整與CPSS、POSS等中間體的配比，可形成致密無(wú)孔隙鍍層，鹽霧測(cè)試時(shí)間延長(zhǎng)至96小時(shí)以上。鍍液中HP含量控制在0.02-0.03g/L時(shí)，既能保障鍍層耐蝕性，又可避免因過(guò)量導(dǎo)致的脆性上升問(wèn)題。25kg防盜紙板桶包裝滿(mǎn)足長(zhǎng)期存儲(chǔ)需求，防潮性能通過(guò)ISO認(rèn)證。針對(duì)柔性基材（如PI膜）鍍銅，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.003-0.006g/L微量添加，配合SLP低應(yīng)力中間體，實(shí)現(xiàn)鍍層延展率提升50%。其獨(dú)特分子結(jié)構(gòu)可抑制鍍層內(nèi)應(yīng)力，避免彎折過(guò)程中銅層開(kāi)裂?？蛻?hù)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，鍍層剝離強(qiáng)度≥1.5N/mm，完全滿(mǎn)足折疊屏手機(jī)等應(yīng)用場(chǎng)景需求。

針對(duì)高精度線路板與電子元件鍍銅需求，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以添加量（0.001-0.008g/L）實(shí)現(xiàn)微孔深鍍能力提升。與GISS、PN等中間體配合，可解決高縱橫比通孔鍍層不均勻問(wèn)題，保障信號(hào)傳輸穩(wěn)定性。嚴(yán)格的含量控制（98%以上）確保批次一致性，助力客戶(hù)通過(guò)電子行業(yè)嚴(yán)苛認(rèn)證。HP醇硫基丙烷磺酸鈉提供完善的工藝異常解決方案：若鍍層出現(xiàn)白霧，可通過(guò)補(bǔ)加AESS或小電流電解恢復(fù)；低區(qū)不良時(shí)添加PNI類(lèi)走位劑即可改善。產(chǎn)品技術(shù)團(tuán)隊(duì)提供全程支持，協(xié)助客戶(hù)建立鍍液參數(shù)監(jiān)控體系，比較大限度減少停機(jī)損失。

江蘇夢(mèng)得新材料有限公司，同時(shí)積極拓展銷(xiāo)售渠道，為眾多行業(yè)提供關(guān)鍵材料支持。

針對(duì)柔性基材（如 PI 膜）鍍銅，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉帶來(lái)新突破。以 0.003 - 0.006g/L 微量添加，配合 SLP 低應(yīng)力中間體，實(shí)現(xiàn)鍍層延展率提升 50%。其獨(dú)特分子結(jié)構(gòu)可抑制鍍層內(nèi)應(yīng)力，避免彎折過(guò)程中銅層開(kāi)裂?？蛻?hù)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，鍍層剝離強(qiáng)度≥1.5N/mm，完全滿(mǎn)足折疊屏手機(jī)等應(yīng)用場(chǎng)景需求，為柔性基材鍍銅開(kāi)辟新路徑。在 IC 引線框架鍍銅領(lǐng)域，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現(xiàn)精湛實(shí)力。以 0.002 - 0.005g/L 添加量，實(shí)現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm 的超細(xì)鍍層。與 PNI、MT - 680 等中間體配合，可精細(xì)調(diào)控鍍層電阻率（≤1.72μΩ?cm），滿(mǎn)足高頻信號(hào)傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時(shí)，HP 消耗量低至 0.2g/KAH，適配半導(dǎo)體行業(yè)潔凈車(chē)間標(biāo)準(zhǔn)，助力 IC 引線框架鍍銅達(dá)到更高精度。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司在電化學(xué)、新能源化學(xué)、生物化學(xué)領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新。鎮(zhèn)江適用硬銅電鍍HP醇硫基丙烷磺酸鈉現(xiàn)貨

在新能源化學(xué)領(lǐng)域，江蘇夢(mèng)得新材料有限公司以環(huán)保理念推動(dòng)產(chǎn)業(yè)升級(jí)。鎮(zhèn)江電鑄硬銅HP醇硫基丙烷磺酸鈉源頭廠家

HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開(kāi)缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過(guò)高鍍層會(huì)發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配，組成線路板鍍銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過(guò)高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不良，可補(bǔ)加少量SLP等一些低區(qū)走位劑或小電流電解處理。鎮(zhèn)江電鑄硬銅HP醇硫基丙烷磺酸鈉源頭廠家