Polos-BESM XL Mk2專為6英寸晶圓設(shè)計(jì)，寫(xiě)入?yún)^(qū)域達(dá)155×155 mm，平臺(tái)雙向重復(fù)性精度0.1 μm，滿足工業(yè)級(jí)需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，支持實(shí)時(shí)觀測(cè)與多層對(duì)準(zhǔn)。配套的BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化了復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程，內(nèi)置高性能筆記本電腦實(shí)現(xiàn)快速數(shù)據(jù)處理，成為微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和光子晶體研究的理想工具。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì)?？蛻粽J(rèn)可：全球 500 + 客戶滿意度達(dá) 98%，復(fù)購(gòu)率 75%，技術(shù)支持響應(yīng)時(shí)間 < 2 小時(shí)。浙江德國(guó)POLOS桌面無(wú)掩模光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

品牌定位：桌面級(jí)微納加工的革新者，德國(guó)Polos以“高精度、低成本、易操作”為core定位，專注于紫外激光直寫(xiě)光刻機(jī)研發(fā)，打破了傳統(tǒng)光刻設(shè)備對(duì)大型實(shí)驗(yàn)室的依賴。其產(chǎn)品主打無(wú)掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，將亞微米級(jí)加工能力融入桌面級(jí)設(shè)備，覆蓋微電子、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等多領(lǐng)域。從科研機(jī)構(gòu)的快速原型制作到中小企業(yè)的小批量生產(chǎn)，Polos通過(guò)技術(shù)普惠，成為全球微納加工領(lǐng)域的親民型benchmark品牌。德國(guó) Polos 是桌面級(jí)紫外激光直寫(xiě)光刻機(jī)領(lǐng)域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 為core定位。主打無(wú)掩模技術(shù)與緊湊設(shè)計(jì)，產(chǎn)品覆蓋 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率達(dá) 0.3-23μm，適配多基材加工。廣泛應(yīng)用于微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，為科研機(jī)構(gòu)與中小企業(yè)提供高性價(jià)比微納加工解決方案，推動(dòng)技術(shù)普惠。黑龍江PSP光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化亞微米級(jí)精度：0.8 μmmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。

某智能機(jī)器人實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)制造了磁控微納機(jī)器人。其激光直寫(xiě)技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu)，機(jī)器人在旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)下的推進(jìn)速度達(dá) 50μm/s，轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過(guò)自定義三維運(yùn)動(dòng)軌跡，該機(jī)器人在微流控芯片中成功實(shí)現(xiàn)了單個(gè)紅細(xì)胞的捕獲與轉(zhuǎn)運(yùn)，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計(jì)（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細(xì)胞表面進(jìn)行納米級(jí)手術(shù)，相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加，簡(jiǎn)化射頻器件（如IDC電容器）制造流程。研究團(tuán)隊(duì)利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。其高重復(fù)性（0.1 μm）確?？蒲谐晒目赊D(zhuǎn)化性，助力國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。納 / 微機(jī)械：亞微米級(jí)結(jié)構(gòu)加工，微型齒輪精度達(dá) ±50nm，推動(dòng)微機(jī)電系統(tǒng)創(chuàng)新。

在organ芯片研究中，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級(jí)精度的三維結(jié)構(gòu)。德國(guó) Polos 光刻機(jī)憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù)，幫助科研團(tuán)隊(duì)在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面。某再生醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)室使用 Polos 光刻機(jī)，成功制備出肝芯片微通道，其內(nèi)皮細(xì)胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%，且可通過(guò)軟件實(shí)時(shí)調(diào)整通道曲率，precise模擬肝臟血流動(dòng)力學(xué)。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期，為藥物肝毒性測(cè)試提供了更真實(shí)的體外模型，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例。成本效益：?jiǎn)未纹毓獬杀镜陀趥鹘y(tǒng)光刻 1/3，小批量研發(fā)更經(jīng)濟(jì)。安徽PSP光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

微型傳感器量產(chǎn)：80 μm開(kāi)環(huán)諧振器加工能力，推動(dòng)工業(yè)級(jí)MEMS傳感器升級(jí)。浙江德國(guó)POLOS桌面無(wú)掩模光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

Polos光刻機(jī)在微機(jī)械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開(kāi)環(huán)諧振器和2 μm叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開(kāi)發(fā)。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)），用戶還能擴(kuò)展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機(jī)器人及光學(xué)元件提供多尺度制造方案。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì)。浙江德國(guó)POLOS桌面無(wú)掩模光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)