2D x-ray圖8當應(yīng)用2D x-ray技術(shù)時,所有的器件都需要被布置在 PCB的正面。而用2Dx-ray去檢測這些器件時,還必須再定 義出一塊沒有器件的地方為“禁區(qū)”。對于有些BGAs,會 推薦使用一種淚滴型的不對稱焊盤設(shè)計,這使得焊錫的成 型性質(zhì)被系統(tǒng)錯誤的判斷為一種幾何的連接形態(tài);此外, 一些特殊的QFN向內(nèi)或向外的彎月型焊盤設(shè)計也同樣有這種情況。QFN 焊盤設(shè)計QFN器件的焊盤尺寸、焊膏印 刷面積與它的引腳尺寸是同樣大小 的,而且器件的引腳是交錯排列在 封裝體底部的(圖8)。貼片后回流焊前:移位,漏料、極性、歪斜、腳彎、錯件.吳中區(qū)國內(nèi)自動化缺陷檢測設(shè)備設(shè)備廠家
PLCCs器件的引腳的焊盤有著不同設(shè)計。如果是一個 長焊盤設(shè)計,在PLCC引腳上焊錫的爬升效果是可以檢查 的。如果焊盤保持明亮,那么焊錫已經(jīng)爬升到了引腳端, 所以認為器件是焊上了。假如遵循這個設(shè)計原則,可以通過垂直檢測來檢查出缺陷。對于PLCC焊點,有時會出現(xiàn)少錫的情況。由于引腳少 錫的爬升情況和沒有焊錫時是一樣的,所以對PLCC焊點不 能通過垂直檢測,而要通過斜角檢測的方式來檢查少錫缺陷。PCB的整體布局 對于普通的AXI測試PCB布局,所有的焊盤都必須進行 阻焊處理。這是因為阻焊層和實際的焊盤并沒有真正地接 觸到,在阻焊層和焊盤之間存在著一定的間隙。這樣做的 好處是:焊錫受熱后就可以聚集在焊盤內(nèi),這也使得在XRAY影像中很容易再現(xiàn)焊料的爬升情況。吳中區(qū)國內(nèi)自動化缺陷檢測設(shè)備設(shè)備廠家刷錫后貼片前:橋接-移位-無錫-錫不足.
暗場缺陷檢查設(shè)備是一種**于45納米及以上工藝半導(dǎo)體制造缺陷檢測的分析儀器。該設(shè)備通過低角度散射信號收集技術(shù)抑制前層噪音,顯著提高信噪比,同時具備檢測0.2微米級微粒缺陷與圖形缺陷的雙重能力 [1-3]。在滿足基本檢測靈敏度的條件下,其吞吐量可達每小時20片晶圓 [1-2]。主要應(yīng)用于集成電路研發(fā)領(lǐng)域,典型用戶包括上海集成電路研發(fā)中心有限公司采用低角度散射信號收集技術(shù),通過優(yōu)化光學(xué)路徑抑制晶圓前層結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的背景噪音,提升檢測信號與背景噪音的比例 [1-2]。
● 對于不同產(chǎn)品的AOI全球檢查庫,有可能在當?shù)剡M行調(diào)整──這是AOI軟件必備的特性。● 貼片公差——進料器常規(guī)的維護和校準。● 確定檢查質(zhì)量:IPC標準2級——必須允許使用朝下的電阻器。組件趐起和共面性的檢測必須可靠。關(guān)于元件長度公差,不同的組件供應(yīng)商、電路板和無鉛焊料的供應(yīng)商都不可能沒有任何直接的影響。優(yōu)良的AOI程序應(yīng)該能夠應(yīng)付這些這影響。如果這些個別點的變化可以保持不變,那么就能夠相當大地簡化AOI編程。經(jīng)研究得到的結(jié)論是,由于無鉛產(chǎn)生的影響,圖形對照系統(tǒng)無法得到適合的檢查結(jié)果,這是因為合格的樣品變化太大。傳統(tǒng)圖像處理:采用全局/局部閾值分割進行像素分類,配合邊緣檢測算法提取缺陷輪廓.
刷錫后貼片前:橋接-移位-無錫-錫不足貼片后回流焊前:移位,漏料、極性、歪斜、腳彎、錯件回流焊或波峰焊后:少錫/多錫、無錫短接 錫球 漏料-極性-移位腳彎錯件PCB行業(yè)裸板檢測(1)高速檢測系統(tǒng)與PCB板貼裝密度無關(guān)(2)快速便捷的編程系統(tǒng)圖形界面下進行運用帖裝數(shù)據(jù)自動進行數(shù)據(jù)檢測運用元件數(shù)據(jù)庫進行檢測數(shù)據(jù)的快速編輯(3)運用豐富的**多功能檢測算法和二元或灰度水平光學(xué)成像處理技術(shù)進行檢測(4)根據(jù)被檢測元件位置的瞬間變化進行檢測窗口的自動化校正,達到高精度檢測(5)通過用墨水直接標記于PCB板上或在操作顯示器上用圖形錯誤表示來進行檢測電的核對在這個位置產(chǎn)生的定量的過程控制信息,提供高速片機和密間距元件貼裝設(shè)備校準的信息。昆山附近自動化缺陷檢測設(shè)備哪里買
這個階段的定量過程控制數(shù)據(jù)包括,印刷偏移和焊錫量信息,而有關(guān)印刷焊錫的定性信息也會產(chǎn)生。吳中區(qū)國內(nèi)自動化缺陷檢測設(shè)備設(shè)備廠家
缺陷類型:微粒缺陷(如異物污染)圖形缺陷(如光刻圖案偏移) [1-3]2.檢測精度:可實現(xiàn)0.2微米級缺陷的識別,滿足45納米工藝節(jié)點的質(zhì)量控制需求 [1-3]。吞吐量:每小時處理20片300毫米晶圓(基于2021年技術(shù)標準) [1] [3]適用工藝:45納米及更高制程的集成電路制造 [1-3]主要用于半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的在線缺陷檢測,覆蓋晶圓前道制程中的關(guān)鍵工藝步驟,確保芯片良率與可靠性 [1-3]。上海集成電路研發(fā)中心有限公司自2011年起使用KLA-Tencor Puma9150型號設(shè)備(截至2020年),同期配備頻譜分析儀、晶邊缺陷檢查設(shè)備等科研儀器 [2-3]。吳中區(qū)國內(nèi)自動化缺陷檢測設(shè)備設(shè)備廠家
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