光學(xué)薄膜按應(yīng)用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學(xué)保護(hù)膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率,常用來制**光、折光和共振腔器件。光學(xué)增透膜沉積在光學(xué)元件表面,用以減少表面反射,增加光學(xué)系統(tǒng)透射,又稱減反射膜。光學(xué)濾光膜用來進(jìn)行光譜或其他光性分割,其種類多,結(jié)構(gòu)復(fù)雜。光學(xué)保護(hù)膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面,用以增加其強(qiáng)度或穩(wěn)定性,改進(jìn)光學(xué)性質(zhì)。最常見的是金屬鏡面的保護(hù)膜。如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過率的波紋要求很高,膜系結(jié)構(gòu)會更加復(fù)雜。如皋質(zhì)量光學(xué)膜服務(wù)電話
波長分光膜又叫雙色分光膜,顧名思義它是按波長區(qū)域把光束分成兩部分的薄膜。這種膜可以是一種截止濾光片或帶通濾光片,所不同的是,波長分光膜不僅要考慮透過光而且要考慮反射光,二者都要求有一定形狀的光譜曲線。波長分光膜通常在一定入射角下使用,在這種情況下,由于偏振的影響,光譜曲線會發(fā)生畸變,為了克服這種影響,必須考慮薄膜的消偏振問題。光學(xué)薄膜光強(qiáng)分光膜是按照一定的光強(qiáng)比把光束分成兩部分的薄膜,這種薄膜有時*考慮某一波長,叫做單色分光膜;有時需要考慮一個光譜區(qū)域叫做寬帶分光膜;用于可見光的寬帶分光膜,又叫做中性分光膜。這種膜也常在斜入射下應(yīng)用,由于偏振的影響,二束光的偏振狀態(tài)可以相差很多,在有些工作中,可以不考慮這種差別,但在另一些工作中(例如某些干涉儀),則要求兩束光都是消偏振的,這就需要設(shè)計和制備消偏振膜。啟東國內(nèi)光學(xué)膜批量定制由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料。
在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損耗大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。
光學(xué)功能膜由分層介質(zhì)構(gòu)成,通過界面?zhèn)鞑崿F(xiàn)光束調(diào)控,包括偏振片和相位差補(bǔ)償膜。其中偏振片通過選擇性透過特定偏振方向光波,相位差補(bǔ)償膜則用于修正光程差,二者是液晶顯示器實現(xiàn)顯像功能的關(guān)鍵組件 [1-2]。基礎(chǔ)研究階段(19世紀(jì)初-20世紀(jì)初)德國、美國科學(xué)家建立光學(xué)薄膜基礎(chǔ)理論體系,促成減反射膜等初期產(chǎn)品問世 [1]。2.工業(yè)化應(yīng)用階段(20世紀(jì)30年代-90年代)真空鍍膜技術(shù)突破推動產(chǎn)品實用化,逐步應(yīng)用于攝影鏡頭、顯微鏡等光學(xué)儀器 [1]。平板型偏振片工作的波長區(qū)域比較窄,但它可以做得很大,抗激光強(qiáng)度也比較高,所以經(jīng)常用在強(qiáng)激光系統(tǒng)中。
在太陽能電池中的應(yīng)用硅材料是一種半導(dǎo)體材料,太陽能電池發(fā)電原理主要就是利用這種半導(dǎo)體的光電效應(yīng)。硅折射率很大,照射到硅表面的光不能充分被吸收,而是很大一部分被反射掉,為了比較大限度地減少反射損失,可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來提高電池的轉(zhuǎn)化效率過鍍減反射膜膜可增加光的透過率,從而提高電池的效率,多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉(zhuǎn)化效率提高了5% ~6%,而且還可以提高基體的抗裂強(qiáng)度;氮化硅減反射膜使電池的轉(zhuǎn)化效率提高到16.7%,薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷;二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能??梢允峭该鹘橘|(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。如皋智能光學(xué)膜批量定制
;采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。如皋質(zhì)量光學(xué)膜服務(wù)電話
圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊,周圍是環(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間,光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部,真空室里有含6個圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的優(yōu)先方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn),同時繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動機(jī)械裝置的中部,驅(qū)動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵?;准訜嵯到y(tǒng)由4個石英燈組成,真空室的兩邊各兩個。如皋質(zhì)量光學(xué)膜服務(wù)電話
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