中清航科創(chuàng)新性推出“激光預(yù)劃+機械精切”復(fù)合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結(jié)合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應(yīng)力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯(lián)動補償系統(tǒng)，通過實時監(jiān)測晶圓形變動態(tài)調(diào)整切割參數(shù)。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內(nèi)，支持3DNAND多層堆疊結(jié)構(gòu)加工。選擇中清航科切割代工服務(wù)，復(fù)雜圖形晶圓損耗降低27%。上海砷化鎵晶圓切割劃片廠

中清航科兆聲波清洗技術(shù)結(jié)合納米氣泡噴淋，去除切割道深槽內(nèi)的微顆粒。流體仿真設(shè)計使清洗液均勻覆蓋15:1深寬比結(jié)構(gòu)，殘留物<5ppb，電鏡檢測達標率100%。中清航科推出刀片/激光器租賃服務(wù)：通過云平臺監(jiān)控耗材使用狀態(tài)，按實際切割長度計費?？蛻鬋APEX（資本支出）降低40%，并享受技術(shù)升級，實現(xiàn)輕資產(chǎn)運營。中清航科VirtualCut軟件構(gòu)建切割過程3D物理模型，輸入材料參數(shù)即可預(yù)測崩邊尺寸、應(yīng)力分布。虛擬調(diào)試功能將新工藝驗證周期從3周壓縮至72小時，加速客戶產(chǎn)品上市。中清航科綠色切割方案：冷卻液循環(huán)利用率達95%，激光系統(tǒng)能耗降低30%（對比行業(yè)均值）。碳足跡追蹤平臺量化每片晶圓加工排放，助力客戶達成ESG目標，已獲ISO14064認證。連云港碳化硅線晶圓切割寬度第三代半導體切割中清航科提供全套解決方案，良率95%+。

面向磁傳感器制造，中清航科開發(fā)超導磁懸浮切割臺。晶圓在強磁場（0.5T）下懸浮，消除機械接觸應(yīng)力，切割后磁疇結(jié)構(gòu)畸變率<0.3%，靈敏度波動控制在±0.5%。中清航科電化學回收裝置從切割廢水中提取金/銅/錫等金屬，純度達99.95%。單條產(chǎn)線年回收貴金屬價值超$80萬，回收水符合SEMIF78標準，實現(xiàn)零廢液排放。針對HJT電池脆弱電極層，中清航科采用熱激光控制技術(shù)（LCT）。紅外激光精確加熱切割區(qū)至200℃，降低材料脆性，電池效率損失<0.1%，碎片率控制在0.2%以內(nèi)。

隨著半導體市場需求的快速變化，產(chǎn)品迭代周期不斷縮短，這對晶圓切割的快速響應(yīng)能力提出更高要求。中清航科建立了快速工藝開發(fā)團隊，承諾在收到客戶新樣品后72小時內(nèi)完成切割工藝驗證，并提供工藝報告與樣品測試數(shù)據(jù)，幫助客戶加速新產(chǎn)品研發(fā)進程，搶占市場先機。晶圓切割設(shè)備的操作安全性至關(guān)重要，中清航科嚴格遵循SEMIS2安全標準，在設(shè)備設(shè)計中融入多重安全保護機制。包括激光安全聯(lián)鎖、急停按鈕、防護門檢測、過載保護等，同時配備安全警示系統(tǒng)，實時顯示設(shè)備運行狀態(tài)與潛在風險，確保操作人員的人身安全與設(shè)備的安全運行。中清航科提供切割工藝認證服務(wù)，助客戶通過車規(guī)級標準。

當晶圓切割面臨復(fù)雜圖形切割需求時，中清航科的矢量切割技術(shù)展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。該技術(shù)可精確識別任意復(fù)雜切割路徑，包括圓弧、曲線及異形圖案，通過分段速度調(diào)節(jié)確保每一段切割的平滑過渡，切割軌跡誤差控制在2μm以內(nèi)。目前已成功應(yīng)用于光電子芯片的精密切割，為AR/VR設(shè)備中心器件生產(chǎn)提供有力支持。半導體生產(chǎn)車間的設(shè)備協(xié)同運作對通信兼容性要求極高，中清航科的晶圓切割設(shè)備多方面支持OPCUA通信協(xié)議，可與主流MES系統(tǒng)實現(xiàn)實時數(shù)據(jù)交互。通過標準化數(shù)據(jù)接口，將切割進度、設(shè)備狀態(tài)、質(zhì)量數(shù)據(jù)等信息實時上傳至管理平臺，助力客戶實現(xiàn)生產(chǎn)過程的數(shù)字化管控與智能決策。中清航科切割機防震平臺隔絕0.1Hz振動，保障切割穩(wěn)定性。溫州碳化硅線晶圓切割刀片

晶圓切割后分選設(shè)備中清航科集成方案，效率達6000片/小時。上海砷化鎵晶圓切割劃片廠

晶圓切割的主要目標之一是從每片晶圓中獲得高產(chǎn)量的、功能完整且無損的芯片。產(chǎn)量是半導體制造中的一個關(guān)鍵性能指標，因為它直接影響電子器件生產(chǎn)的成本和效率。更高的產(chǎn)量意味著每個芯片的成本更造能力更大，制造商更能滿足不斷增長的電子器件需求。晶圓切割直接影響到包含這些分離芯片的電子器件的整體性能。切割過程的精度和準確性需要確保每個芯片按照設(shè)計規(guī)格分離，尺寸和對準的變化小。這種精度對于在終設(shè)備中實現(xiàn)比較好電氣性能、熱管理和機械穩(wěn)定性至關(guān)重要。上海砷化鎵晶圓切割劃片廠