為幫助客戶應對半導體行業(yè)的技術(shù)人才短缺問題，中清航科推出“設(shè)備+培訓”打包服務。購買設(shè)備的客戶可獲得技術(shù)培訓名額，培訓內(nèi)容涵蓋設(shè)備操作、工藝調(diào)試、故障排除等，培訓結(jié)束后頒發(fā)認證證書。同時提供在線技術(shù)支持平臺，隨時解答客戶在生產(chǎn)中遇到的技術(shù)問題。隨著半導體器件向微型化、集成化發(fā)展，晶圓切割的精度要求將持續(xù)提升。中清航科已啟動亞微米級切割技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化項目，計劃通過引入更高精度的運動控制系統(tǒng)與更短波長的激光源，實現(xiàn)500nm以內(nèi)的切割精度，為量子芯片、生物傳感器等前沿領(lǐng)域的發(fā)展提供關(guān)鍵制造設(shè)備支持。晶圓切割全流程追溯系統(tǒng)中清航科開發(fā)，實現(xiàn)單芯片級質(zhì)量管理。芯片晶圓切割測試

對于高價值的晶圓產(chǎn)品，切割過程中的追溯性尤為重要。中清航科的切割設(shè)備內(nèi)置二維碼追溯系統(tǒng)，每片晶圓進入設(shè)備后都會生成單獨的二維碼標識，全程記錄切割時間、操作人員、工藝參數(shù)、檢測結(jié)果等信息，可通過掃碼快速查詢?nèi)鞒虜?shù)據(jù)，為質(zhì)量追溯與問題分析提供完整依據(jù)。在晶圓切割的邊緣處理方面，中清航科突破傳統(tǒng)工藝限制，開發(fā)出激光倒角技術(shù)。可在切割的同時完成晶圓邊緣的圓弧處理，倒角半徑可精確控制在5-50μm范圍內(nèi)，有效減少邊緣應力集中，提高晶圓的機械強度。該技術(shù)特別適用于需要多次搬運與清洗的晶圓加工流程。泰州碳化硅陶瓷晶圓切割代工廠12英寸晶圓切割中清航科解決方案突破產(chǎn)能瓶頸，良率99.3%。

中清航科創(chuàng)新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結(jié)合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯(lián)動補償系統(tǒng)，通過實時監(jiān)測晶圓形變動態(tài)調(diào)整切割參數(shù)。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內(nèi)，支持3DNAND多層堆疊結(jié)構(gòu)加工。

在晶圓切割的產(chǎn)能規(guī)劃方面，中清航科為客戶提供專業(yè)的產(chǎn)能評估服務。通過產(chǎn)能模擬軟件，根據(jù)客戶的晶圓規(guī)格、日產(chǎn)量需求、設(shè)備利用率等參數(shù)，精確計算所需設(shè)備數(shù)量與配置方案，并提供投資回報分析，幫助客戶優(yōu)化設(shè)備采購決策，避免產(chǎn)能過?；虿蛔愕膯栴}。針對晶圓切割過程中可能出現(xiàn)的異常情況，中清航科開發(fā)了智能應急處理系統(tǒng)。設(shè)備可自動識別切割偏差過大、晶圓破裂等異常狀態(tài)，并根據(jù)預設(shè)方案采取緊急停機、廢料處理等措施，同時自動保存異常發(fā)生前的工藝數(shù)據(jù)，為后續(xù)問題分析提供依據(jù)，比較大限度減少損失。中清航科晶圓切割機支持物聯(lián)網(wǎng)運維，故障響應速度提升60%。

GaN材料硬度高且易產(chǎn)生解理裂紋。中清航科創(chuàng)新水導激光切割（WaterJetGuidedLaser），利用高壓水柱約束激光束，冷卻與沖刷同步完成。崩邊尺寸<8μm，熱影響區(qū)只2μm，滿足射頻器件高Q值要求。設(shè)備振動導致切割線寬波動。中清航科應用主動磁懸浮阻尼系統(tǒng)，通過6軸加速度傳感器實時生成反向抵消力，將振幅壓制在50nm以內(nèi)。尤其適用于超窄切割道（<20μm）的高精度需求。光學器件晶圓需避免邊緣微裂紋影響透光率。中清航科紫外皮秒激光系統(tǒng)（波長355nm）配合光束整形模塊，實現(xiàn)吸收率>90%的冷加工，切割面粗糙度Ra<0.05μm，突破攝像頭模組良率瓶頸。中清航科推出切割工藝保險服務，承保因切割導致的晶圓損失。寧波碳化硅半導體晶圓切割企業(yè)

采用中清航科激光隱形切割技術(shù)，晶圓分片效率提升40%以上。芯片晶圓切割測試

半導體晶圓是一種薄而平的半導體材料圓片，組成通常為硅，主要用于制造集成電路（IC）和其他電子器件的基板。晶圓是構(gòu)建單個電子組件和電路的基礎(chǔ)，各種材料和圖案層在晶圓上逐層堆疊形成。由于優(yōu)異的電子特性，硅成為了常用的半導體晶圓材料。根據(jù)摻雜物的添加，硅可以作為良好的絕緣體或?qū)w。此外，硅的儲量也十分豐富，上述這些特性都使其成為半導體行業(yè)的成本效益選擇。其他材料如鍺、氮化鎵（GaN）、砷化鎵（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的適用場景，但它們的市場份額遠小于硅。芯片晶圓切割測試